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单晶铜基体与金刚石压头黏着接触与摩擦的分子动力学模拟

中文摘要第3-4页
英文摘要第4-5页
第一章 绪论第9-17页
    1.1 微/纳尺度接触行为研究背景及意义第9-10页
    1.2 微/纳尺度接触行为研究现状及方法第10-15页
        1.2.1 微/纳尺度接触和摩擦行为实验法研究第11-12页
        1.2.2 微/纳尺度接触和摩擦行为数值法研究第12页
        1.2.3 微/纳尺度接触和摩擦行为分子动力学研究第12-15页
    1.3 本论文主要研究内容第15-17页
第二章 接触力学和摩擦力学基础理论第17-23页
    2.1 接触力学基础理论第17-19页
        2.1.1 Hertz接触力学理论模型第17-18页
        2.1.2 JKR黏附接触理论模型第18页
        2.1.3 DMT黏附接触理论模型第18页
        2.1.4 M-D接触理论模型第18-19页
    2.2 摩擦力学基础理论第19-21页
        2.2.1 机械啮合摩擦理论第19-20页
        2.2.2 分子作用理论第20页
        2.2.3 黏着摩擦理论第20-21页
    2.3 本章小结第21-23页
第三章 分子动力学模拟技术第23-38页
    3.1 引言第23页
    3.2 分子动力学模拟基本原理第23-25页
    3.3 原子间势函数分类第25-28页
        3.3.1 Lennard-Jones势(LJ势)第26页
        3.3.2 嵌入原子势(EAM势)第26-27页
        3.3.3 Morse势函数第27页
        3.3.4 Tersoff势函数第27-28页
    3.4 运动方程差分有限算法第28-30页
        3.4.1 Verlet算法第28-29页
        3.4.2 Velocity-Verlet算法第29页
        3.4.3 蛙跳算法第29-30页
        3.4.4 Gear算法第30页
    3.5 边界条件第30-32页
        3.5.1 周期性边界条件第31页
        3.5.2 非周期性边界条件第31-32页
    3.6 分子动力学模拟系综第32页
        3.6.1 微正则系综第32页
        3.6.2 正则系综第32页
        3.6.3 等温等压系综第32页
    3.7 模拟体系控温法第32-34页
    3.8 截断半径法和邻域列表法第34页
    3.9 分子动力学软件和模拟流程简介第34-36页
        3.9.1 分子动力学软件介绍第34-35页
        3.9.2 分子动力学模拟流程第35-36页
    3.10 分子动力学模拟后处理分析工具第36-37页
    3.11 本章小结第37-38页
第四章 单晶铜基体与金刚石压头纳米黏着接触与分离过程的分析第38-56页
    4.1 引言第38页
    4.2 单晶铜基体与金刚石压头纳米黏着接触模型建立第38-39页
    4.3 模拟条件和参数确定第39-40页
    4.4 中心对称参数描述(CSP)第40页
    4.5 模拟结果与分析第40-47页
        4.5.1 模拟边界效应对接触力影响第40-41页
        4.5.2 原子间势能分析第41-42页
        4.5.3 接触与分离过程接触力分析第42-43页
        4.5.4 单晶铜纳观现象分析第43-45页
        4.5.5 压头曲率半径对接触力和基体变形影响第45-47页
    4.6 单晶铜基体内空洞缺陷的存在对接触过程的影响第47-54页
        4.6.1 模型示意图第48页
        4.6.2 空洞坍塌现象演化第48-49页
        4.6.3 空洞半径和深度对空洞坍塌程度影响第49-51页
        4.6.4 空洞半径和深度对接触力影响第51-52页
        4.6.5 空洞半径和深度对能量耗散影响第52-53页
        4.6.6 空洞半径和深度对原子势能影响第53-54页
    4.7 本章小结第54-56页
第五章 单晶铜基体与金刚石压头纳米黏着接触与摩擦分析第56-67页
    5.1 引言第56页
    5.2 单晶铜基体与金刚石压头纳米黏着接触和摩擦模型第56-57页
    5.3 下压速度对接触力和基体变形影响第57-58页
    5.4 体系温度对接触力和基体变形影响第58-60页
    5.5 滑动速度对摩擦力和基体接触表面破坏影响第60-63页
    5.6 体系温度对摩擦力和基体接触表面破坏影响第63-64页
    5.7 压深对摩擦力和磨削原子高度影响第64-66页
    5.8 本章小结第66-67页
第六章 两种不同形状压头与单晶铜基体间接触力和摩擦力分析第67-74页
    6.1 引言第67页
    6.2 模型建立第67-68页
    6.3 Hertz理论计算第68页
    6.4 模拟结果与分析第68-72页
        6.4.1 接触过程中的接触力分析第68-70页
        6.4.2 压头与基体接触过程的摩擦力和法向力比较分析第70-71页
        6.4.3 基体内失效原子分析第71-72页
    6.5 本章小结第72-74页
结论与展望第74-77页
    本文的主要结论第74-75页
    主要创新点第75-76页
    研究展望第76-77页
参考文献第77-83页
致谢第83-84页
个人简介第84页
在校期间的研宄成果及发表的学术论文第84页

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