| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 课题的来源和意义 | 第14-15页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第14页 |
| 1.1.2 课题研究的背景及意义 | 第14-15页 |
| 1.2 SiC晶片超精密加工现状 | 第15-18页 |
| 1.2.1 单晶SiC材料 | 第15-16页 |
| 1.2.2 单晶SiC抛光片加工的现状 | 第16-18页 |
| 1.3 纳米压痕技术法研究薄膜结构现状 | 第18-21页 |
| 1.3.1 纳米力学测试技术的发展 | 第18-20页 |
| 1.3.2 薄膜材料纳米力学性能的表征手段 | 第20-21页 |
| 1.3.3 不同厚度的薄膜判定现状 | 第21页 |
| 1.4 纳米划痕法研究附着力现状 | 第21-22页 |
| 1.5 论文内容安排 | 第22-24页 |
| 第二章 实验器材及研究方法 | 第24-40页 |
| 2.1 腐蚀反应原理及实验材料 | 第24-25页 |
| 2.1.1 单晶SiC芬顿(Fenton)反应原理 | 第24-25页 |
| 2.1.2 实验材料 | 第25页 |
| 2.2 纳米压痕实验 | 第25-33页 |
| 2.2.1 纳米压痕实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.2.2 纳米压痕实验原理 | 第26-28页 |
| 2.2.3 腐蚀层厚度的推算方法 | 第28-33页 |
| 2.3 纳米划痕实验 | 第33-34页 |
| 2.3.1 纳米划痕实验器材 | 第33页 |
| 2.3.2 纳米划痕粘附特性测试原理 | 第33页 |
| 2.3.3 纳米划痕实验过程 | 第33-34页 |
| 2.4 实验设计 | 第34-36页 |
| 2.4.1 单晶SiC抛光片腐蚀前的准备工作 | 第34页 |
| 2.4.2 单晶SiC抛光片的腐蚀实验 | 第34-35页 |
| 2.4.3 纳米压痕实验 | 第35页 |
| 2.4.4 纳米划痕实验 | 第35-36页 |
| 2.5 检测仪器及方法 | 第36-39页 |
| 2.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 腐蚀层厚度测量研究 | 第40-56页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 固相催化剂有效性分析 | 第40-48页 |
| 3.2.1. 使用化学成分判断不同固相催化剂腐蚀效果 | 第40-46页 |
| 3.2.2. 使用XRD对SiC腐蚀层进行物相分析 | 第46-48页 |
| 3.3 优选最佳固相催化剂 | 第48-50页 |
| 3.4 研究腐蚀时间对腐蚀层厚度变化的影响 | 第50-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 腐蚀层与基底间临界附着力的研究 | 第56-66页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 纳米划痕实验分析方法 | 第56-57页 |
| 4.3 未腐蚀区域的纳米划痕实验 | 第57-58页 |
| 4.4 不同腐蚀层厚度对于临界附着力的影响 | 第58-61页 |
| 4.5 不同划痕速度对于临界附着力的影响 | 第61-63页 |
| 4.6 表面的不均匀对于临界附着力的影响分析 | 第63-65页 |
| 4.7 本章小结 | 第65-66页 |
| 总结与展望 | 第66-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
