摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第9-10页 |
1 文献综述 | 第10-24页 |
1.1 硫化氢 | 第10-11页 |
1.1.1 硫化氢的化学及物理性质 | 第10页 |
1.1.2 硫化氢的来源 | 第10页 |
1.1.3 硫化氢的毒害及危险性 | 第10-11页 |
1.2 氢气的用途 | 第11页 |
1.3 硫化氢的分解方法 | 第11-17页 |
1.3.1 热法 | 第11-12页 |
1.3.2 热化学法 | 第12-13页 |
1.3.3 电化学法 | 第13-14页 |
1.3.4 光催化法 | 第14-16页 |
1.3.5 低温等离子体法 | 第16-17页 |
1.4 低温等离子体分类 | 第17-20页 |
1.4.1 电晕放电等离子体 | 第17-18页 |
1.4.2 辉光放电等离子体 | 第18页 |
1.4.3 滑动弧光放电等离子体 | 第18页 |
1.4.4 微波等离子体 | 第18-19页 |
1.4.5 射频等离子体 | 第19页 |
1.4.6 介质阻挡放电等离子体 | 第19-20页 |
1.4.7 光催化剂与低温等离子体协同分解硫化氢 | 第20页 |
1.5 光催化催化剂掺杂改性 | 第20-24页 |
1.5.1 非金属离子掺杂 | 第21页 |
1.5.2 金属离子掺杂 | 第21-22页 |
1.5.3 贵金属沉积 | 第22页 |
1.5.4 共掺杂 | 第22-23页 |
1.5.5 复合半导体 | 第23-24页 |
2 实验部分 | 第24-30页 |
2.1 化学试剂与仪器 | 第24-25页 |
2.2 分解硫化氢反应性能评价 | 第25-28页 |
2.3 表征方法和所用仪器 | 第28-30页 |
2.3.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第28页 |
2.3.2 紫外可见光谱(UV-Vis) | 第28页 |
2.3.3 氮气物理吸附 | 第28页 |
2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第28-29页 |
2.3.5 透射电镜(TEM) | 第29页 |
2.3.6 数码相机 | 第29页 |
2.3.7 数字示波器 | 第29页 |
2.3.8 红外成像仪 | 第29-30页 |
3 P改性ZnS/Al_2O_3催化剂 | 第30-35页 |
3.1 实验部分 | 第30页 |
3.2 结果与分析 | 第30-34页 |
3.2.1 XRD结果与分析 | 第30-31页 |
3.2.2 UV-Vis结果与分析 | 第31-33页 |
3.2.3 催化分解硫化氢性能评价 | 第33-34页 |
3.3 本章小结 | 第34-35页 |
4 NH3预处理改性ZnS/Al_2O_3催化剂 | 第35-43页 |
4.1 实验部分 | 第35页 |
4.2 结果与分析 | 第35-41页 |
4.2.1 XRD结果与分析 | 第35-37页 |
4.2.2 UV-Vis结果与分析 | 第37-38页 |
4.2.3 TEM结果与分析 | 第38-39页 |
4.2.4 XPS结果与分析 | 第39-40页 |
4.2.5 催化分解硫化氢性能评价 | 第40-41页 |
4.2.6 机理探讨 | 第41页 |
4.3 本章小结 | 第41-43页 |
5 N掺杂和氢-氮等离子体处理改性ZnS/Al_2O_3催化剂 | 第43-53页 |
5.1 高温NH_3处理对ZnS/Al_2O_3进行N掺杂改性 | 第43-47页 |
5.1.1 实验部分 | 第43页 |
5.1.2 XRD结果与分析 | 第43-44页 |
5.1.3 UV-Vis结果与分析 | 第44-46页 |
5.1.4 催化分解H_2S性能评价 | 第46-47页 |
5.2 通过(H_2/N_2)等离子体对ZnS/Al_2O_3进行预处理改性 | 第47-51页 |
5.2.1 实验部分 | 第47-48页 |
5.2.2 XRD结果与分析 | 第48-49页 |
5.2.3 UV-Vis结果与分析 | 第49-50页 |
5.2.4 催化分解H_2S性能评价 | 第50-51页 |
5.3 NH_3预处理对CdS/Al_2O_3进行改性 | 第51-52页 |
5.3.1 实验部分 | 第51页 |
5.3.2 催化分解H_2S性能评价 | 第51-52页 |
5.3.3 XRD结果与分析 | 第52页 |
5.6 本章小结 | 第52-53页 |
结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-60页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |