亚硝酸腐蚀的多晶硅绒面结构
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 光伏产业情况及发展趋势 | 第11-16页 |
| 1.2.1 当前光伏产业情况 | 第11-13页 |
| 1.2.2 航天光伏产业 | 第13-16页 |
| 第二章 多晶硅太阳能电池制备工艺 | 第16-33页 |
| 2.1 制绒 | 第16-19页 |
| 2.2 扩散 | 第19-21页 |
| 2.3 后清洗刻蚀 | 第21-25页 |
| 2.4 PECVD 镀膜 | 第25-30页 |
| 2.5 丝网印刷 | 第30-31页 |
| 2.6 烧结 | 第31-32页 |
| 2.7 丝网测试分选 | 第32页 |
| 2.8 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 多晶硅电池表面处理技术及本文研究意义 | 第33-39页 |
| 3.1 多晶硅表面处理的现状与未来 | 第33-38页 |
| 3.2 本文主要研究内容及意义 | 第38-39页 |
| 第四章 多晶硅绒面结构的光学特性 | 第39-43页 |
| 4.1 多晶硅绒面陷光效应的基本理论 | 第39-41页 |
| 4.2 讨论及其结论 | 第41-43页 |
| 第五章 硅腐蚀的化学反应原理 | 第43-49页 |
| 5.1 多晶硅片腐蚀的化学反应原理 | 第43-45页 |
| 5.2 影响腐蚀的主要因素 | 第45-48页 |
| 5.2.1 腐蚀剂配比影响 | 第45-46页 |
| 5.2.2 温度影响 | 第46-47页 |
| 5.2.3 腐蚀时间影响 | 第47页 |
| 5.2.4 添加剂的影响 | 第47-48页 |
| 5.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第六章 普通酸腐蚀的多晶硅表面结构 | 第49-56页 |
| 6.1 富 HF 溶液腐蚀体系 | 第49-51页 |
| 6.2 富 HNO_3溶液腐蚀体系 | 第51-52页 |
| 6.3 HF-HNO_3腐蚀存在的主要问题 | 第52-54页 |
| 6.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第七章 亚硝酸钠刻蚀的多晶硅绒面 | 第56-60页 |
| 7.1 普通酸液中加入亚硝酸钠体系的基本原理 | 第56-57页 |
| 7.2 NANO_2腐蚀液的腐蚀实验 | 第57-59页 |
| 7.3 结论 | 第59-60页 |
| 第八章 总结与展望 | 第60-61页 |
| 8.1 主要结论 | 第60页 |
| 8.2 研究展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第68页 |
