| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 固体激光器及其激光增益介质 | 第8-11页 |
| 1.1.1 固体激光器 | 第8-9页 |
| 1.1.2 固体激光增益介质 | 第9页 |
| 1.1.3 三种固体激光增益介质的比较 | 第9-10页 |
| 1.1.4 Y_2O_3材料特点 | 第10-11页 |
| 1.2 稀土离子发光特点 | 第11-15页 |
| 1.2.1 Ce~(3+)、Sm~(3+)和Pr~(3+)发光特点 | 第12-14页 |
| 1.2.2 Ce~(3+)、Sm~(3+)之间的能量传递机制 | 第14-15页 |
| 1.3 激光陶瓷及其研究进展 | 第15-17页 |
| 1.3.1 国外研究进展 | 第15-16页 |
| 1.3.2 国内研究进展 | 第16-17页 |
| 1.4 课题主要研究内容及依据 | 第17-18页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第17页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 (YLa)_2O_3系列陶瓷粉体的制备及性能研究 | 第18-38页 |
| 2.1 共沉淀法制备(YLa)_2O_3系列陶瓷粉体 | 第18-20页 |
| 2.1.1 共沉淀法简介 | 第18页 |
| 2.1.2 实验原料、设备及仪器 | 第18-19页 |
| 2.1.3 粉体制备 | 第19-20页 |
| 2.2 (YLa)_2O_3系列陶瓷粉体制备条件的选取 | 第20-28页 |
| 2.2.1 样品工艺条件 | 第20-21页 |
| 2.2.2 样品与标准卡片对比 | 第21-22页 |
| 2.2.3 最佳煅烧温度的选取 | 第22-24页 |
| 2.2.4 最佳煅烧时间的选取 | 第24-25页 |
| 2.2.5 最佳沉淀pH值的选取 | 第25-26页 |
| 2.2.6 La~(3+)掺杂摩尔分数的选取 | 第26-28页 |
| 2.2.7 粉体最佳制备条件总结 | 第28页 |
| 2.3 (YLa)_2O_3陶瓷粉体的性能研究 | 第28-37页 |
| 2.3.1 能谱分析 | 第28-29页 |
| 2.3.2 红外光谱分析 | 第29-30页 |
| 2.3.3 荧光光谱分析 | 第30-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 (YLa)_2O_3系列陶瓷的制备及性能研究 | 第38-52页 |
| 3.1 冷等静压-真空烧结技术制备(YLa)_2O_3系列透明激光陶瓷 | 第38-42页 |
| 3.1.1 陶瓷成型、烧结工艺简介 | 第38-39页 |
| 3.1.2 实验原料、设备及仪器 | 第39-41页 |
| 3.1.3 陶瓷制备 | 第41-42页 |
| 3.2 (YLa)_2O_3系列透明激光陶瓷烧结工艺的探索 | 第42-50页 |
| 3.2.1 样品工艺列表 | 第42-43页 |
| 3.2.2 透明陶瓷的烧结工艺曲线 | 第43页 |
| 3.2.3 陶瓷成型坯件厚度对陶瓷样品的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.4 烧结恒温时间的选取 | 第44-46页 |
| 3.2.5 烧结温度的选取 | 第46-49页 |
| 3.2.6 烧结助剂正硅酸乙酯（TEOS）对陶瓷样品的影响 | 第49-50页 |
| 3.2.7 退火对陶瓷样品的影响 | 第50页 |
| 3.3 Sm:(YLa)_2O_3陶瓷透过率分析 | 第50-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 附录 | 第57页 |
