| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 缩略语/英文名/中文名 | 第9-10页 |
| 前言 | 第10-17页 |
| 1.1 分子印迹原理 | 第10-11页 |
| 1.2 整体柱技术 | 第11页 |
| 1.3 有机-无机杂化印迹聚合物的进展 | 第11-12页 |
| 1.4 POSS | 第12-13页 |
| 1.5 基于金属离子枢纽的印迹技术 | 第13-14页 |
| 1.6 大分子拥挤效应 | 第14-15页 |
| 1.7 选题依据 | 第15-17页 |
| 一、POSS介导的分子印迹整体柱的制备与评价 | 第17-36页 |
| 1.1 引言 | 第17-19页 |
| 1.2 试剂及仪器 | 第19-22页 |
| 1.2.1 实验中用到的仪器 | 第19-20页 |
| 1.2.2 实验中用到的试剂 | 第20-22页 |
| 1.3 实验部分 | 第22-24页 |
| 1.3.1 印迹整体柱的制备过程 | 第22-23页 |
| 1.3.2 分子印迹整体柱的制备方案 | 第23-24页 |
| 1.4 结果与讨论 | 第24-31页 |
| 1.4.1 整体柱制备方案的优化 | 第24-27页 |
| 1.4.2 色谱条件对印迹效果的影响 | 第27-31页 |
| 1.5 分子印迹整体柱的表征 | 第31-33页 |
| 1.5.1 扫描电镜 | 第31-32页 |
| 1.5.2 压汞测试 | 第32-33页 |
| 1.6 前沿色谱分析 | 第33-35页 |
| 1.7 小结 | 第35-36页 |
| 二、分子拥挤环境下基于金属离子枢纽的印迹整体柱的制备与评价 | 第36-51页 |
| 2.1 引言 | 第36-37页 |
| 2.2 试剂及仪器 | 第37-39页 |
| 2.2.1 实验中用到的试剂 | 第37-38页 |
| 2.2.2 实验所用仪器 | 第38-39页 |
| 2.3 实验部分 | 第39-41页 |
| 2.3.1 印迹整体柱的制备过程 | 第39-40页 |
| 2.3.2 配方表 | 第40-41页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第41-47页 |
| 2.4.1 整体柱制备方案的优化 | 第41-45页 |
| 2.4.2 流动相条件对印迹效果的影响 | 第45-47页 |
| 2.5 印迹整体柱的表征 | 第47-49页 |
| 2.5.1 扫描电镜 | 第47页 |
| 2.5.2 氮吸附 | 第47-49页 |
| 2.6 前沿色谱 | 第49-50页 |
| 2.7 小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 发表论文及参与科研情况说明 | 第58-59页 |
| 综述 分子印迹整体柱的研究进展 | 第59-78页 |
| 综述参考文献 | 第72-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 个人简历 | 第79页 |