| 致谢 | 第9-10页 |
| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第26-48页 |
| 1.1 引言 | 第26-27页 |
| 1.1.1 过渡金属氧化物纳米材料简介 | 第26-27页 |
| 1.1.2 过渡金属氧化物纳米结构阵列阵列/薄膜及用途 | 第27页 |
| 1.2 过渡金属氧化物纳米材料在锂离子电池中的运用 | 第27-30页 |
| 1.2.1 非碳锂离子电池负极材料的研究意义 | 第27-28页 |
| 1.2.2 基于转换反应机理的过渡金属氧化物 | 第28-30页 |
| 1.3 过渡金属氧化物纳米材料作为锂离子电池负极存在的问题 | 第30-32页 |
| 1.3.1 问题产生的原因及不利影响 | 第30-31页 |
| 1.3.2 解决问题的两类途径 | 第31-32页 |
| 1.4 过渡金属氧化物微纳多级结构阵列/薄膜的设计 | 第32-35页 |
| 1.4.1 过渡金属氧化物微纳多级结构薄膜 | 第32-33页 |
| 1.4.2 过渡金属氧化物微纳多级结构阵列 | 第33-35页 |
| 1.5 过渡金属氧化物纳米结构阵列/薄膜的合成方法 | 第35-38页 |
| 1.5.1 直接在金属基底表面原位生长阵列/薄膜的方法 | 第35-36页 |
| 1.5.2 模板辅助的电化学沉积法 | 第36-37页 |
| 1.5.3 自牺牲模板法 | 第37-38页 |
| 1.6 过渡金属氧化物纳米结构阵列/薄膜的发展方向 | 第38-39页 |
| 1.7 本论文的选题背景和主要研究内容 | 第39-41页 |
| 1.7.1 本论文的选题背景 | 第39页 |
| 1.7.2 本论文的主要研究内容 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-48页 |
| 第二章 水解-刻蚀自维持循环法制备氧化镍微纳结构阵列及储锂性能研究 | 第48-78页 |
| 2.1 引言 | 第48-49页 |
| 2.2 实验部分 | 第49-52页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器设备 | 第49-50页 |
| 2.2.2 样品的制备 | 第50-51页 |
| 2.2.3 产物的表征 | 第51-52页 |
| 2.2.4 样品的电化学性能测试 | 第52页 |
| 2.3 实验结果与分析讨论 | 第52-74页 |
| 2.3.1 前驱物及氧化镍的物相与形貌表征分析 | 第52-56页 |
| 2.3.2 水解-刻蚀自维持循环反应机理研究 | 第56-60页 |
| 2.3.3 前驱物Ni(SO_4)_(0.3)(OH)_(1.4)纳米带阵列的生长过程研究 | 第60-63页 |
| 2.3.4 反应工艺条件对前驱物物Ni(SO_4)_(0.3)(OH)_(1.4)纳米带阵列生长的影响 | 第63-71页 |
| 2.3.5 前驱物及氧化镍BET比表面积测试 | 第71-72页 |
| 2.3.6 产物的电化学性能研究 | 第72-74页 |
| 2.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 第三章 水解-刻蚀自维持循环法制备金属氧化物/氢氧化物微纳多级结构阵列 | 第78-100页 |
| 3.1 引言 | 第78-79页 |
| 3.2 实验部分 | 第79-83页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器设备 | 第79-80页 |
| 3.2.2 样品的制备 | 第80-83页 |
| 3.2.3 产物的表征 | 第83页 |
| 3.3 实验结果与分析讨论 | 第83-95页 |
| 3.3.1 水解-刻蚀自维持循环机理拓展研究示意图 | 第83-84页 |
| 3.3.2 在钴基底表面合成物Ni(SO_4)_(0.3)(OH)_(1.4)纳米带阵列 | 第84-85页 |
| 3.3.3 在镍基底表面制备锰基非晶态纳米片阵列 | 第85-86页 |
| 3.3.4 在镍基底表面制备氢氧化铁纳米片阵列 | 第86-87页 |
| 3.3.5 在钴基底表面制备氢氧化钴纳米片阵列 | 第87-88页 |
| 3.3.6 在铝基底表面制备AlOOH纳米片阵列 | 第88-89页 |
| 3.3.7 在钛基底表面生长二氧化钛多级纳米棒阵列 | 第89-90页 |
| 3.3.8 在锌基底表面生长二元金属复合物氢氧化镍/氧化锌纳米片阵列 | 第90-92页 |
| 3.3.9 在镉基底表面制备二元金属复合物氢氧化钴/氢氧化镉纳米片阵列 | 第92-93页 |
| 3.3.10 氢氧化物前驱物热处理得到相应氧化物阵列 | 第93-94页 |
| 3.3.11 水解-刻蚀自维持循环机理的适用范围 | 第94-95页 |
| 3.4 本章小结 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-100页 |
| 第四章 自组装氧化铜齿轮柱状微纳多级结构阵列的可控合成及储锂性能研究 | 第100-134页 |
| 4.1 引言 | 第100-101页 |
| 4.2 实验部分 | 第101-104页 |
| 4.2.1 实验试剂及仪器设备 | 第101-102页 |
| 4.2.2 样品的制备 | 第102-103页 |
| 4.2.3 产物的表征 | 第103-104页 |
| 4.2.4 样品的电化学性能测试 | 第104页 |
| 4.3 实验结果与分析讨论 | 第104-128页 |
| 4.3.1 前驱物及氧化铜的物相与形貌表征分析 | 第104-109页 |
| 4.3.2 前驱物氢氧化铜阵列的生长机理研究 | 第109-111页 |
| 4.3.3 引入正丁醇改进的微乳液法的机理研究 | 第111-116页 |
| 4.3.4 反应工艺条件对前驱物氢氧化铜阵列生长的影响 | 第116-124页 |
| 4.3.5 氧化铜齿轮柱阵列的电化学性能研究 | 第124-128页 |
| 4.4 本章小结 | 第128-130页 |
| 参考文献 | 第130-134页 |
| 第五章 在纳米柱阵列柱与柱之间层层自组装构建纳米桥 | 第134-154页 |
| 5.1 引言 | 第134-135页 |
| 5.2 实验部分 | 第135-137页 |
| 5.2.1 实验试剂及仪器设备 | 第135页 |
| 5.2.2 样品的制备 | 第135-136页 |
| 5.2.3 产物的表征 | 第136-137页 |
| 5.3 实验结果与分析讨论 | 第137-150页 |
| 5.3.1 产物形貌表征分析 | 第137-138页 |
| 5.3.2 纳米桥的可控合成 | 第138-141页 |
| 5.3.3 反应工艺条件对层层自组装纳米桥生长的影响 | 第141-145页 |
| 5.3.4 产物的接触角测试 | 第145-147页 |
| 5.3.5 产物的紫外—可见光谱测试 | 第147-150页 |
| 5.4 本章小结 | 第150-151页 |
| 参考文献 | 第151-154页 |
| 第六章 结论与展望 | 第154-156页 |
| 6.1 结论 | 第154-155页 |
| 6.2 展望 | 第155-156页 |
| 攻读博士期间的学术活动及成果情况 | 第156-157页 |
