钛合金微弧氧化膜制备工艺及应用研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·钛及钛合金简介 | 第7-9页 |
| ·钛及其合金表面微弧氧化处理技术 | 第9-13页 |
| ·概述 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化的原理 | 第10-12页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第12页 |
| ·微弧氧化技术国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·本文研究内容 | 第13-15页 |
| 第二章 试验条件及方法 | 第15-22页 |
| ·微弧氧化处理 | 第15-19页 |
| ·试验材料 | 第15-16页 |
| ·试样的制备 | 第16页 |
| ·试验装置 | 第16-18页 |
| ·试验简述 | 第18-19页 |
| ·氧化膜的检测 | 第19-21页 |
| ·厚度检测 | 第19页 |
| ·表面形貌 | 第19页 |
| ·XRD物相分析 | 第19-20页 |
| ·结合力 | 第20页 |
| ·腐蚀性能 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 工艺参数对成膜质量影响研究 | 第22-41页 |
| ·电解液配比对微弧氧化膜的影响 | 第22-25页 |
| ·电解液的组成 | 第22-23页 |
| ·电解液配比的优化 | 第23-25页 |
| ·微弧氧化时间对膜层的影响 | 第25-29页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜厚度的影响 | 第25-26页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第26-27页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜层相组成的影响 | 第27-28页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜层与基底结合力的影响 | 第28-29页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层的影响 | 第29-33页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第29-30页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层相组成的影响 | 第30-32页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层厚度的影响 | 第32页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层与基底结合力的影响 | 第32-33页 |
| ·频率对微弧氧化薄膜的影响 | 第33-36页 |
| ·频率对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第33-35页 |
| ·频率对微弧氧化膜层厚度的影响 | 第35页 |
| ·频率对微弧氧化膜层与基底结合力的影响 | 第35-36页 |
| ·占空比对微弧氧化膜的影响 | 第36-39页 |
| ·占空比对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·占空比对氧化膜中组成物相的影响 | 第37-38页 |
| ·占空比对氧化膜厚度的影响 | 第38-39页 |
| ·占空比对对微弧氧化膜层与基底结合力的影响 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 微弧氧化在钛基阳极中的应用 | 第41-48页 |
| ·钛阳极金属氧化物涂层电极简介 | 第41-42页 |
| ·钛阳极预处理对比试验 | 第42-45页 |
| ·电火花毛化 | 第42-43页 |
| ·电参数对电火花蚀除量的影响 | 第43-44页 |
| ·钛阳极表面预处理对比试验 | 第44-45页 |
| ·钛阳极析氧性能检测对比分析 | 第45-46页 |
| ·钛阳极强化寿命对比试验 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第54-56页 |
