材料二次电子产额的高精度测试装置设计与研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 研究背景及意义 | 第10-16页 |
| 1.2.1 粒子加速器简介 | 第10-14页 |
| 1.2.2 二次电子研究背景 | 第14-15页 |
| 1.2.3 课题研究意义 | 第15-16页 |
| 1.3 本文主要工作及创新点 | 第16-19页 |
| 第二章 二次电子简介 | 第19-29页 |
| 2.1 二次电子产生机理 | 第19-20页 |
| 2.2 二次电子产额计算方法 | 第20-22页 |
| 2.3 二次电子产额测试方法 | 第22-24页 |
| 2.4 二次电子研究 | 第24-27页 |
| 2.4.1 二次电子在加速器中的研究 | 第25页 |
| 2.4.2 二次电子在航天器材中的研究 | 第25-26页 |
| 2.4.3 二次电子在SEM中的研究 | 第26-27页 |
| 2.5 小结 | 第27-29页 |
| 第三章 二次电子测量装置设计 | 第29-49页 |
| 3.1 装置要求 | 第29页 |
| 3.2 设计使用软件 | 第29-31页 |
| 3.3 总体设计 | 第31-32页 |
| 3.4 测试系统 | 第32-38页 |
| 3.4.1 电子枪 | 第32-34页 |
| 3.4.2 离子枪 | 第34-35页 |
| 3.4.3 样品架 | 第35-37页 |
| 3.4.4 送样器 | 第37-38页 |
| 3.5 控制及数据采集系统 | 第38-40页 |
| 3.6 真空系统 | 第40-47页 |
| 3.6.1 测试腔体 | 第40-41页 |
| 3.6.2 涡轮分子泵 | 第41-42页 |
| 3.6.3 溅射离子泵 | 第42-44页 |
| 3.6.4 真空计 | 第44-45页 |
| 3.6.5 四极质谱仪 | 第45-47页 |
| 3.7 小结 | 第47-49页 |
| 第四章 实验测试 | 第49-61页 |
| 4.1 装置安装 | 第49-50页 |
| 4.2 实验步骤 | 第50-51页 |
| 4.3 实验结果及分析 | 第51-56页 |
| 4.3.1 常用金属材料测试结果 | 第52-54页 |
| 4.3.2 石墨烯测试结果 | 第54-56页 |
| 4.4 电子枪束流稳定性分析 | 第56-57页 |
| 4.5 装置改进设计 | 第57-58页 |
| 4.6 小结 | 第58-61页 |
| 第五章 总结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第66页 |
