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石杉碱甲溶致液晶制剂的研究

摘要第6-8页
Abstract第8-10页
前言第11-14页
第一章 石杉碱甲溶致液晶制剂的制备工艺及流变学特性研究第14-26页
    1.仪器与试剂第14页
        1.1 仪器第14页
        1.2 试剂第14页
    2.方法与结果第14-23页
        2.1 石杉碱甲溶致液晶制剂及空白溶致液晶制剂的制备第14-15页
        2.2 抗稀散性及通针性实验第15-16页
        2.3 流变学考察第16-23页
    3.讨论第23-25页
    4.本章小结第25-26页
第二章 石杉碱甲溶致液晶制剂的偏光特性第26-33页
    1.仪器与试剂第26页
        1.1 仪器第26页
        1.2 试剂第26页
    2.方法与结果第26-32页
        2.1 拟三元相图第26-28页
        2.2 石杉碱甲溶致液晶制剂的偏光纹理第28-32页
    3.讨论第32页
    4.本章小结第32-33页
第三章 石杉碱甲溶致液晶制剂的质量控制方法第33-40页
    1.仪器与试剂第33页
        1.1 仪器第33页
        1.2 试剂第33页
    2.方法与结果第33-38页
        2.1 石杉碱甲最大吸收波长的确定第33-34页
        2.2 石杉碱甲溶致液晶制剂含量测定方法的建立第34-37页
        2.3 石杉碱甲溶致液晶制剂灭菌方法学考察第37-38页
    3.讨论第38页
    4.本章小结第38-40页
第四章 石杉碱甲溶致液晶制剂的体外释放研究第40-47页
    1.仪器与试剂第40-41页
        1.1 仪器第40页
        1.2 试剂第40-41页
    2.方法与结果第41-44页
        2.1 石杉碱甲溶致液晶制剂分析方法的建立第41-43页
        2.2 石杉碱甲溶致液晶制剂体外释放度测定第43-44页
    3.讨论第44-46页
    4.本章小结第46-47页
第五章 石杉碱甲溶致液晶制剂的初步稳定性考察第47-51页
    1.仪器与试剂第47页
        1.1 仪器第47页
        1.2 试剂第47页
    2.方法与结果第47-50页
        2.1 制剂评价指标第47-48页
        2.2 影响因素试验第48-49页
        2.3 长期稳定性试验第49-50页
    3.讨论第50页
    4.本章小结第50-51页
结语第51-53页
参考文献第53-57页
附录第57-68页
    综述第57-67页
        参考文献第64-67页
    研究生期间发表论文第67-68页
致谢第68页

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