| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 1. 绪论 | 第13-28页 |
| 1.1. 研究背景及意义 | 第13-15页 |
| 1.2. 超疏水模型及机理 | 第15-17页 |
| 1.2.1. Wenzel模型 | 第15页 |
| 1.2.2. Cassie--Baxter模型 | 第15-16页 |
| 1.2.3. T形微纳结构疏水机理 | 第16-17页 |
| 1.3. 典型制备超疏水表面微纳结构的方法 | 第17-20页 |
| 1.3.1. 刻蚀法 | 第18-19页 |
| 1.3.2. 模板法 | 第19页 |
| 1.3.3. 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| 1.4. 超疏水表面制备的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.5. 本文研究内容与架构 | 第21-28页 |
| 1.5.1. 卷对卷紫外微纳压印 | 第21-25页 |
| 1.5.2. 本文研究重点 | 第25-26页 |
| 1.5.3. 论文框架 | 第26-28页 |
| 2. 卷对卷紫外微纳压印技术 | 第28-39页 |
| 2.1. 卷对卷紫外微纳压印工艺 | 第28-30页 |
| 2.1.1. PDMS反模制备 | 第29页 |
| 2.1.2. 紫外固化胶涂敷 | 第29-30页 |
| 2.1.3. 微纳结构转印 | 第30页 |
| 2.1.4. 表面处理 | 第30页 |
| 2.2. 卷对卷紫外微纳压印的材料要求 | 第30-33页 |
| 2.2.1. 压印模板 | 第31页 |
| 2.2.2. 卷压辊轮 | 第31-32页 |
| 2.2.3. 薄膜衬底 | 第32页 |
| 2.2.4. 光固化胶 | 第32-33页 |
| 2.3. 紫外光固化机理 | 第33-35页 |
| 2.4. 氟化处理机理 | 第35页 |
| 2.5. 微纳压印脱模过程的理论分析 | 第35-39页 |
| 2.5.1. 材料粘附能对脱模的影响 | 第35-37页 |
| 2.5.2. 具有微结构接触的固-固界面粘附能和脱模力分析 | 第37-39页 |
| 3. 卷对卷紫外微纳压印机设计 | 第39-55页 |
| 3.1. 卷对卷紫外微纳压印样机总体方案分析 | 第39-44页 |
| 3.1.1. 样机需要实现的功能 | 第39页 |
| 3.1.2. 样机的性能指标 | 第39-41页 |
| 3.1.3. 样机总体布局 | 第41-42页 |
| 3.1.4. 卷对卷紫外压印模块方案设计 | 第42-44页 |
| 3.2. 卷对卷紫外微纳压印机主要功能模块 | 第44-49页 |
| 3.2.1. 薄膜传送模块 | 第45-47页 |
| 3.2.2. 紫外固化胶液涂敷模块 | 第47页 |
| 3.2.3. 卷对卷紫外微纳压印模块 | 第47-48页 |
| 3.2.4. 薄膜表面处理模块 | 第48-49页 |
| 3.2.5. 机架设计 | 第49页 |
| 3.3. 整机控制系统 | 第49-51页 |
| 3.3.1. 薄膜传送张力控制 | 第49-50页 |
| 3.3.2. 辊轮压力控制 | 第50-51页 |
| 3.3.3. 电机控制 | 第51页 |
| 3.4. 紫外固化光源与熏蒸加热室 | 第51-52页 |
| 3.4.1. 紫外灯源 | 第51-52页 |
| 3.4.2. 熏蒸加热室 | 第52页 |
| 3.5. 卷对卷紫外微纳压印样机整机情况 | 第52-55页 |
| 4. 实验结果及分析 | 第55-66页 |
| 4.1. PDMS压印模板与紫外固化胶的制备 | 第55-57页 |
| 4.1.1. PDMS压印模板的制备 | 第55页 |
| 4.1.2. 紫外固化胶配制 | 第55-57页 |
| 4.2. 氟化和构建微纳结构对薄膜疏水效果的影响实验 | 第57-58页 |
| 4.3. 紫外固化胶对比实验 | 第58-62页 |
| 4.3.1. 粘度、透光率、韧性、固化速度实验 | 第58-60页 |
| 4.3.2. 平面紫外微纳压印实验 | 第60-62页 |
| 4.4. 卷对卷紫外微纳压印机制备超疏水试验 | 第62-65页 |
| 4.5. 实验总结 | 第65-66页 |
| 5. 结论与展望 | 第66-69页 |
| 5.1. 总结 | 第66-67页 |
| 5.2. 展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |