In-N共掺p型ZnO薄膜制备及稳定性研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-10页 |
| 1 研究背景及意义 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ZNO薄膜的基本性质 | 第11-12页 |
| ·ZNO的结构形态 | 第12-14页 |
| ·ZnO体单晶 | 第12页 |
| ·ZnO薄膜 | 第12-14页 |
| ·ZnO纳米结构 | 第14页 |
| ·ZNO薄膜的性能 | 第14-15页 |
| ·ZnO薄膜的光学性能 | 第14-15页 |
| ·ZnO薄膜的电学性能 | 第15页 |
| ·ZNO薄膜的本征缺陷 | 第15-16页 |
| ·P型ZNO薄膜的研究进展 | 第16-19页 |
| ·IA族掺杂 | 第16-17页 |
| ·ⅤA族掺杂 | 第17-19页 |
| ·施主-受主共掺杂p型ZnO | 第19页 |
| ·P型ZNO薄膜稳定性的研究进展 | 第19-21页 |
| ·ZNO薄膜的应用 | 第21-22页 |
| ·本文的立题依据、研究内容及创新点 | 第22-24页 |
| ·立题依据 | 第22页 |
| ·研究内容 | 第22-23页 |
| ·本文的创新点 | 第23-24页 |
| 2 实验原理、实验过程及表征手段 | 第24-30页 |
| ·实验原理 | 第24-26页 |
| ·射频磁控溅射的基本原理 | 第24-25页 |
| ·离子注入原理 | 第25页 |
| ·退火原理 | 第25-26页 |
| ·第一性原理计算 | 第26页 |
| ·实验过程 | 第26-28页 |
| ·实验的材料 | 第26-27页 |
| ·衬底的准备和清洗 | 第27页 |
| ·薄膜的制备流程 | 第27页 |
| ·薄膜制备的基本参数 | 第27-28页 |
| ·小结 | 第28页 |
| ·薄膜的性能测试手段 | 第28-29页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第28页 |
| ·HALL测试 | 第28页 |
| ·XRD测试 | 第28-29页 |
| ·AFM测试 | 第29页 |
| ·双光束紫外-可见分光光度计测试 | 第29页 |
| ·拉曼散色光谱测试 | 第29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 3 退火温度对ZNO:IN薄膜特性的影响 | 第30-39页 |
| ·光学性质 | 第30-32页 |
| ·透射谱 | 第30页 |
| ·吸收谱 | 第30-32页 |
| ·结构性质 | 第32-37页 |
| ·XRD | 第32-33页 |
| ·AFM | 第33-35页 |
| ·Raman | 第35-37页 |
| ·电学性质 | 第37页 |
| ·第一性原理计算 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 4 IN-N共掺P型ZNO薄膜稳定性研究 | 第39-45页 |
| ·HALL跟踪测试 | 第40-41页 |
| ·吸收光谱 | 第41-42页 |
| ·结构性质 | 第42-43页 |
| ·XRD | 第42-43页 |
| ·Raman | 第43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 5 总结和展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-51页 |
| 附录A | 第51-52页 |
| 致谢 | 第5页 |
