| 中文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·磁电阻效应 | 第10-12页 |
| ·正常磁电阻效应（OMR） | 第10页 |
| ·各向异性磁电阻效应（AMR） | 第10-11页 |
| ·巨磁电阻效应（GMR） | 第11-12页 |
| ·隧道磁电阻效应（TMR） | 第12页 |
| ·各向异性磁电阻的研究意义 | 第12-13页 |
| ·国内外研究现状 | 第13-15页 |
| ·外在条件 | 第13-14页 |
| ·NiFe 多层薄膜的内在结构组成 | 第14-15页 |
| ·研究目的和主要研究内容 | 第15-18页 |
| ·研究目的 | 第15页 |
| ·主要研究内容 | 第15-18页 |
| 第二章 薄膜的制备和测试 | 第18-30页 |
| ·溅射镀膜 | 第18页 |
| ·磁控溅射 | 第18-23页 |
| ·直流（DC）磁控溅射 | 第19页 |
| ·射频（RF）磁控溅射 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射系统介绍 | 第20-23页 |
| ·薄膜的制备 | 第23-25页 |
| ·基片的清洗 | 第23-24页 |
| ·材料靶的安装 | 第24页 |
| ·确定溅射速率 | 第24-25页 |
| ·镀膜 | 第25页 |
| ·各项异性磁电阻的测量 | 第25-27页 |
| ·实验方案设计 | 第27-30页 |
| 第三章 NiFe 多层膜电阻特性与表征的研究 | 第30-46页 |
| ·NiO/NiFe/NiO 层对 NiFe 多层膜 AMR 的影响 | 第30-37页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验 | 第30-31页 |
| ·NiFe(I)层厚度对 NiFe 多层膜 AMR 的影响 | 第31-34页 |
| ·NiO（T）层厚度对 NiFe 多层膜各向异性磁电阻的影响 | 第34-36页 |
| ·结论 | 第36-37页 |
| ·不同非磁性金属隔离层对 Ni81Fe19自旋阀 AMR 值的影响 | 第37-46页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验方法 | 第37-38页 |
| ·不同厚度的 Cu 隔离层对 NiFe 多层膜 AMR 值的影响 | 第38-40页 |
| ·不同厚度的 Ta 和 Nb 隔离层对 NiFe 多层膜 AMR 值的影响 | 第40-42页 |
| ·不同非磁性金属隔离层对 NiFe 多层膜 AMR 值的影响 | 第42-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 第四章 总结 | 第46-48页 |
| ·本论文已完成的工作 | 第46-47页 |
| ·今后的工作建议 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
