| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| Content | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-23页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·传统镁合金表面着色防护技术 | 第14-16页 |
| ·化学转化着色膜 | 第14-15页 |
| ·等离子喷涂 | 第15页 |
| ·化学镀 | 第15-16页 |
| ·阳极氧化 | 第16页 |
| ·微弧氧化 | 第16-21页 |
| ·镁合金微弧氧化 | 第16-19页 |
| ·镁合金微弧氧化着色膜 | 第19-21页 |
| ·课题背景和研究内容及思路 | 第21-23页 |
| ·课题背景 | 第21-22页 |
| ·研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验材料及实验方法 | 第23-28页 |
| ·实验材料及设备 | 第23-24页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·实验所用的试剂样品 | 第23页 |
| ·实验所用设备仪器 | 第23-24页 |
| ·微弧氧化着色膜的制备过程 | 第24-25页 |
| ·试样预处理 | 第24页 |
| ·配置电解液 | 第24-25页 |
| ·微弧氧化处理 | 第25页 |
| ·实验分析及测试 | 第25-28页 |
| ·膜层厚度测量 | 第25页 |
| ·膜层粗糙度测量 | 第25页 |
| ·膜层微观形貌、元素成分及物相分析 | 第25-26页 |
| ·膜层耐蚀性能测试 | 第26页 |
| ·膜层接触角实验 | 第26页 |
| ·膜层硬度实验 | 第26页 |
| ·膜层外观等级测试 | 第26-28页 |
| 第三章 添加 CuSO_4时着色膜的制备与性能研究 | 第28-61页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·浓度单变量实验 | 第28-40页 |
| ·铝酸钠浓度变化对膜层性能的影响 | 第29-31页 |
| ·磷酸钠浓度变化对膜层性能的影响 | 第31-34页 |
| ·着色盐浓度变化对膜层性能的影响 | 第34-37页 |
| ·PH 调节剂浓度变化对膜层性能的影响 | 第37-39页 |
| ·四硼酸钠浓度变化对膜层性能的影响 | 第39-40页 |
| ·浓度正交实验 | 第40-45页 |
| ·正交实验设计 | 第40-43页 |
| ·验证实验 | 第43-45页 |
| ·电参数的单变量实验 | 第45-56页 |
| ·不同电源控制模式对膜层性能的影响 | 第45页 |
| ·电参数对膜层性能的影响 | 第45-56页 |
| ·微弧氧化灰褐色陶瓷膜形成机理 | 第56-59页 |
| ·镁合金微弧氧化着色膜的相组成 | 第56-57页 |
| ·灰褐色陶瓷膜的生长机理 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 添加 KMnO_4时着色膜的制备与性能研究 | 第61-75页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·单变量实验 | 第61-69页 |
| ·高锰酸钾浓度变化对膜层性能的影响 | 第61-64页 |
| ·电流密度对膜层性能的影响 | 第64-65页 |
| ·占空比对膜层性能的影响 | 第65-67页 |
| ·时间对膜层性能的影响 | 第67-69页 |
| ·正交实验 | 第69-72页 |
| ·正交实验设计 | 第69-71页 |
| ·验证实验 | 第71-72页 |
| ·膜层物相分析 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第84-85页 |
| 详细摘要 | 第85-89页 |