硅锥、碳纳米管及石墨烯的场发射性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·纳米材料简介 | 第11页 |
| ·硅锥、碳纳米管及石墨烯概述 | 第11-17页 |
| ·碳纳米管及石墨烯的原子、电子结构 | 第12-13页 |
| ·碳纳米管及石墨烯的性质 | 第13-15页 |
| ·硅锥、碳纳米管及石墨烯的制备 | 第15页 |
| ·碳纳米管及石墨烯的应用 | 第15-17页 |
| ·硅锥、碳纳米管及石墨烯场发射国内外研究现状 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究目的、内容及意义 | 第18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 第二章 场致电子发射 | 第19-24页 |
| ·场发射原理 | 第19-21页 |
| ·影响场发射的因素 | 第21-22页 |
| ·几何结构的影响 | 第21页 |
| ·表面功函数的影响 | 第21页 |
| ·其他因素的影响 | 第21-22页 |
| ·场发射评价指标 | 第22页 |
| ·本章小结 | 第22-24页 |
| 第三章 硅锥的场发射性能研究 | 第24-29页 |
| ·样品准备 | 第24页 |
| ·硅锥的场发射结果与讨论 | 第24-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第四章 碳纳米管场发射性能研究 | 第29-38页 |
| ·样品准备 | 第29页 |
| ·激光处理的碳纳米管薄膜场发射性能 | 第29-33页 |
| ·电解液处理的碳纳米管薄膜的低温场发射性能 | 第33-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第五章 石墨烯场发射及其改性处理 | 第38-48页 |
| ·样品准备 | 第38页 |
| ·等离子体处理的石墨烯薄膜场发射性能 | 第38-42页 |
| ·等离子体处理的石墨烯薄膜低温场发射性能 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第六章 场发射静态显示的实现 | 第48-51页 |
| ·显示器 | 第48-49页 |
| ·样品准备 | 第49页 |
| ·实验结果及讨论 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第七章 总结和展望 | 第51-53页 |
| ·总结 | 第51页 |
| ·展望 | 第51-52页 |
| ·本文创新点 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读学位期间发表论文目录 | 第61页 |
