摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第1章 绪论 | 第12-22页 |
·研究背景 | 第12页 |
·微弧氧化技术 | 第12-16页 |
·微弧氧化涂层的生长特征 | 第13页 |
·微弧氧化涂层的影响因素 | 第13-14页 |
·微弧氧化技术的特点 | 第14-15页 |
·微弧氧化技术研究的不足之处 | 第15-16页 |
·氧化涂层的封孔处理 | 第16-18页 |
·阳极氧化涂层的封孔处理 | 第16-17页 |
·微弧氧化涂层的封孔处理 | 第17-18页 |
·硅烷偶联剂 | 第18-21页 |
·硅烷偶联剂的发展 | 第18-19页 |
·硅烷偶联剂的分子结构 | 第19页 |
·硅烷偶联剂的偶联机理 | 第19-20页 |
·硅烷化处理 | 第20-21页 |
·本文主要研究内容 | 第21-22页 |
第2章 实验材料与研究方法 | 第22-28页 |
·实验材料及性状 | 第22-23页 |
·实验材料 | 第22页 |
·主要材料介绍 | 第22-23页 |
·微弧氧化涂层制备工艺 | 第23-24页 |
·微弧氧化涂层封孔处理工艺 | 第24页 |
·硬脂酸封孔处理 | 第24页 |
·硅烷化处理 | 第24页 |
·微弧氧化涂层厚度及粗糙度测量 | 第24页 |
·涂层厚度测量 | 第24页 |
·涂层粗糙度测量 | 第24页 |
·硅烷化处理涂层性能表征 | 第24-25页 |
·红外光谱测试 | 第24-25页 |
·热失重测试 | 第25页 |
·接触角测试 | 第25页 |
·微弧氧化涂层封孔前后表面形貌观察 | 第25页 |
·微弧氧化涂层封孔前后耐蚀性能分析 | 第25-28页 |
·动电位极化曲线测试 | 第25页 |
·电化学阻抗谱测试 | 第25-26页 |
·腐蚀形貌观察 | 第26页 |
·中性盐雾实验 | 第26-28页 |
第3章 铝合金微弧氧化涂层的制备及性能研究 | 第28-46页 |
·电解液的优化 | 第28-31页 |
·电解液成分的确定 | 第28-29页 |
·微弧氧化工艺 | 第29页 |
·微弧氧化涂层耐蚀性能测定方法 | 第29页 |
·结果分析 | 第29-31页 |
·氧化时间对涂层组织结构及耐蚀性能的影响 | 第31-43页 |
·微弧氧化工艺 | 第31-32页 |
·涂层厚度及粗糙度测量 | 第32页 |
·涂层微观形貌分析 | 第32-34页 |
·动电位极化曲线测试 | 第34-35页 |
·未封孔涂层 EIS 测试 | 第35-43页 |
·本章小结 | 第43-46页 |
第4章 微弧氧化涂层硬脂酸封孔处理研究 | 第46-68页 |
·微弧氧化涂层硬脂酸封孔处理 | 第46-48页 |
·硬脂酸封孔处理工艺 | 第46-47页 |
·结果分析 | 第47-48页 |
·硬脂酸封孔涂层微观形貌分析 | 第48-51页 |
·硬脂酸封孔涂层动电位极化曲线测试 | 第51-52页 |
·硬脂酸封孔涂层 EIS 测试 | 第52-60页 |
·硬脂酸封孔涂层 EIS 数据 | 第52-56页 |
·硬脂酸封孔涂层低频阻抗模值 | 第56-57页 |
·硬脂酸封孔涂层 EIS 分析 | 第57-60页 |
·未封孔涂层和硬脂酸封孔涂层耐蚀性能对比分析 | 第60-66页 |
·氧化 30min 涂层硬脂酸封孔前后耐蚀性能分析 | 第60-63页 |
·氧化 60min 涂层硬脂酸封孔前后耐蚀性能分析 | 第63-66页 |
·本章小结 | 第66-68页 |
第5章 微弧氧化涂层硅烷化处理研究 | 第68-108页 |
·微弧氧化涂层硅烷化处理工艺 | 第68-75页 |
·硅烷偶联剂水解工艺研究 | 第69-72页 |
·固化工艺研究 | 第72-75页 |
·硅烷膜热失重分析 | 第75-77页 |
·硅烷膜红外光谱分析 | 第77-78页 |
·硅烷化处理涂层接触角分析 | 第78-80页 |
·硅烷化处理涂层微观形貌分析 | 第80-82页 |
·硅烷化处理涂层动电位极化曲线测试 | 第82-84页 |
·硅烷化处理涂层 EIS 测试 | 第84-95页 |
·硅烷化处理涂层 EIS 数据 | 第84-88页 |
·硅烷化处理涂层低频阻抗模值 | 第88-89页 |
·硅烷化处理涂层 EIS 分析 | 第89-95页 |
·未封孔涂层和硅烷化处理涂层耐蚀性能对比分析 | 第95-102页 |
·氧化 30min 涂层硅烷化处理前后耐蚀性能分析 | 第95-97页 |
·氧化 45min 涂层硅烷化处理前后耐蚀性能分析 | 第97-100页 |
·氧化 60min 涂层硅烷化处理前后耐蚀性能分析 | 第100-102页 |
·腐蚀形貌分析 | 第102-106页 |
·本章小结 | 第106-108页 |
结论 | 第108-109页 |
参考文献 | 第109-114页 |
致谢 | 第114页 |