钌硼化物的制备、表征与性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-29页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·铂族金属硼化物的制备研究现状 | 第9-16页 |
| ·铂族金属硼化物块体材料 | 第9-14页 |
| ·铂族金属硼化物薄膜材料 | 第14-15页 |
| ·问题与展望 | 第15-16页 |
| ·放电等离子烧结（SPS）技术简介 | 第16-22页 |
| ·放电等离子烧结的装置与机理 | 第16-19页 |
| ·放电等离子烧结的工艺特点 | 第19-20页 |
| ·放电等离子烧结的影响因素 | 第20-22页 |
| ·薄膜制备技术简介 | 第22-25页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射技术 | 第23-25页 |
| ·薄膜生长 | 第25页 |
| ·钌硼化物的晶体结构 | 第25-27页 |
| ·本课题研究的内容与意义 | 第27-28页 |
| ·本课题研究的来源 | 第28-29页 |
| 第二章 实验过程及研究方法 | 第29-38页 |
| ·Ru-B 块体的制备 | 第29-31页 |
| ·实验原料 | 第29页 |
| ·制备方法 | 第29-30页 |
| ·SPS 烧结工艺 | 第30-31页 |
| ·Ru-B 薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·实验设备 | 第31页 |
| ·靶材的选择与制备 | 第31页 |
| ·基片的选择与处理 | 第31-32页 |
| ·薄膜溅射工艺 | 第32页 |
| ·分析检测方法 | 第32-38页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第32-33页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）分析 | 第33页 |
| ·原子力显微镜（AFM）分析 | 第33-35页 |
| ·高分辨透射电子显微镜( HRTEM)分析 | 第35页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS）分析 | 第35-36页 |
| ·维氏硬度测定 | 第36页 |
| ·密度测定 | 第36-38页 |
| 第三章 Ru-B 块体材料的显微组织与性能分析 | 第38-54页 |
| ·RuB 块体的显微组织与性能分析 | 第38-45页 |
| ·物相分析 | 第38-41页 |
| ·断口及表面形貌分析 | 第41-43页 |
| ·性能测试与分析 | 第43-45页 |
| ·RuB_2块体的显微组织与性能分析 | 第45-49页 |
| ·物相分析 | 第45-46页 |
| ·断口及表面形貌分析 | 第46-48页 |
| ·性能测试与分析 | 第48-49页 |
| ·SPS 烧结过程的研究 | 第49-53页 |
| ·烧结理论 | 第49-50页 |
| ·烧结过程分析 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 Ru-B 薄膜的制备与研究 | 第54-66页 |
| ·相结构分析 | 第54-55页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS）分析 | 第55-58页 |
| ·靶材样品的 XPS 分析 | 第56-57页 |
| ·薄膜样品的 XPS 分析 | 第57-58页 |
| ·溅射时间对薄膜的影响 | 第58-62页 |
| ·溅射时间与膜厚的关系 | 第58-59页 |
| ·溅射时间对薄膜形貌的影响 | 第59-62页 |
| ·溅射功率对薄膜的影响 | 第62-65页 |
| ·溅射功率与沉积速率的关系 | 第62-63页 |
| ·溅射功率对薄膜形貌的影响 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第77页 |
