碱性镀浴中钛基体化学镀铂的研究
| 摘要 | 第1-12页 |
| Abstract | 第12-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-30页 |
| ·钛基镀铂概述及其应用 | 第15-17页 |
| ·在金属表面镀铂的一些方法 | 第17-18页 |
| ·冶金加工复合铂 | 第17页 |
| ·磁控溅射 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积 | 第18页 |
| ·钛基电镀铂工艺 | 第18-21页 |
| ·水溶液电镀铂 | 第18-21页 |
| ·氰化物熔盐镀铂 | 第21页 |
| ·钛基化学镀铂 | 第21-26页 |
| ·化学镀简介 | 第21-23页 |
| ·金属基体化学镀铂 | 第23-26页 |
| ·本论文的研究目的和主要内容 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 第二章 实验仪器及方法 | 第30-35页 |
| ·实验装置及工艺流程 | 第30-31页 |
| ·镀液及镀层性能研究方法 | 第31-32页 |
| ·镀层结构及表面分析方法 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 钛基化学镀铂工艺 | 第35-57页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·镀浴的选择 | 第36-37页 |
| ·钛基前处理研究和结果分析 | 第37-45页 |
| ·钛材上镀层难于结合的原因分析 | 第37-38页 |
| ·国内外主要钛材镀前清洗工艺 | 第38-40页 |
| ·钛基化学镀铂前处理方法的选择 | 第40-45页 |
| ·温度对化学镀铂沉积速度的影响 | 第45-46页 |
| ·还原剂浓度对化学镀铂诱发过程和沉积速率的影响 | 第46-48页 |
| ·盐酸羟胺的浓度对化学镀诱发过程和沉积速率的影响 | 第48-50页 |
| ·多孔钛基体化学镀铂 | 第50-54页 |
| ·多孔钛基化学镀铂前处理及镀浴条件 | 第51-52页 |
| ·多孔钛基化学镀铂表面形貌 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第四章 钛基化学镀铂层后处理及性能结构分析 | 第57-73页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·扫描电镜分析 | 第57-59页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第59-61页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第61-64页 |
| ·铂镀层的性能以及镀后处理对其的影响 | 第64-70页 |
| ·铂金属的电催化活性 | 第64-66页 |
| ·钛基化学镀铂电极的电催化活性 | 第66-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 论文总结 | 第73-74页 |
| 在学期间发表的论文和专利 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
