| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| §1-1 薄膜发展概述 | 第10-12页 |
| §1-2 TiAlN 薄膜的发展及其应用 | 第12-14页 |
| §1-3 TiAlN 薄膜的结构特征和性能 | 第14-15页 |
| §1-4 TiAlN 基薄膜的发展趋势 | 第15-16页 |
| §1-5 TiAlCrN 薄膜的结构和性能 | 第16页 |
| §1-6 TiAlCrN 薄膜的研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 课题研究的理论基础和实验仪器介绍 | 第17-31页 |
| §2-1 PVD 沉积理论 | 第17-25页 |
| 2-1-1 薄膜形成理论 | 第17页 |
| 2-1-2 PVD 沉积方法概述 | 第17-19页 |
| 2-1-2-1 蒸发镀膜技术 | 第18-19页 |
| 2-1-2-2 离子镀膜技术 | 第19页 |
| 2-1-2-3 溅射镀膜技术 | 第19页 |
| 2-1-3 磁控溅射法介绍 | 第19-25页 |
| 2-1-3-1 辉光放电 | 第20-21页 |
| 2-1-2-2 溅射机理 | 第21-22页 |
| 2-1-3-3 磁控溅射原理 | 第22-24页 |
| 2-1-3-4 反应溅射 | 第24页 |
| 2-1-3-5 射频溅射 | 第24页 |
| 2-1-3-6 溅射成膜速率 | 第24-25页 |
| §2-2 实验仪器介绍 | 第25-31页 |
| 2-2-1 KP5450II 型超高真空多功能磁控溅射系统 | 第25-26页 |
| 2-2-2 TiAlCrN薄膜表征实验设备简介 | 第26-31页 |
| 2-2-2-1 台阶仪 | 第26-27页 |
| 2-2-2-2 纳米压痕仪 | 第27-28页 |
| 2-2-2-3 X 射线衍射（XRD） | 第28-29页 |
| 2-2-2-4 扫描电子显微镜（SEM） | 第29页 |
| 2-2-2-5 原子力显微镜（AFM） | 第29-30页 |
| 2-2-2-6 动电位极化测量 | 第30-31页 |
| 第三章 TiAlCrN 薄膜的制备，结构与性能的研究 | 第31-50页 |
| §3-1 TiAlCrN 薄膜的制备 | 第31-33页 |
| 3-1-1 基体的制备 | 第31页 |
| 3-1-2 实验参数设定 | 第31页 |
| 3-1-3 实验过程 | 第31-33页 |
| §3-2 TiAlCrN 薄膜的晶体结构研究 | 第33-34页 |
| 3-2-1 TiAlCrN 薄膜的XRD 实验 | 第33页 |
| 3-2-2 XRD 实验结果及分析 | 第33-34页 |
| §3-3 TiAlCrN 薄膜的表面形貌分析 | 第34-41页 |
| 3-3-1 TiAlCrN 薄膜膜厚测量 | 第34-35页 |
| 3-3-2 TiAlCrN 薄膜的SEM 实验及分析 | 第35-40页 |
| 3-3-3 TiAlCrN 薄膜的AFM 观察 | 第40-41页 |
| §3-4 TiAlCrN 薄膜的力学性能研究 | 第41-44页 |
| 3-4-1 TiAlCrN 薄膜的硬度及弹性模量测量 | 第41-43页 |
| 3-4-1-1 TiAlCrN 薄膜纳米压痕实验 | 第41-42页 |
| 3-4-1-2结果与讨论 | 第42-43页 |
| 3-4-2 TiAlCrN 薄膜的结合力测量 | 第43-44页 |
| 3-4-2-1 TiAlCrN 薄膜纳米划痕实验 | 第43-44页 |
| 3-4-2-2 结果与讨论 | 第44页 |
| §3-5 TiAlCrN 薄膜的抗腐蚀性能研究 | 第44-50页 |
| 3-5-1 TiAlCrN 薄膜的动电位极化实验 | 第44-45页 |
| 3-5-2 结果与讨论 | 第45-50页 |
| 第四章 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第56页 |
