| 第1章 绪论 | 第1-16页 |
| 1．1 薄膜材料的应用现状 | 第8-10页 |
| 1．2 光学薄膜的发展历史和研究现状 | 第10-13页 |
| 1．3 氧化钛薄膜的应用和发展现状 | 第13-14页 |
| 1．4 本研究课题的提出及研究目的 | 第14-16页 |
| 第2章 氧化钛薄膜的制备技术基础 | 第16-34页 |
| 2．1 真空物理基础 | 第16-20页 |
| 2．2 氧化钛薄膜的制备技术概述 | 第20-25页 |
| 2．2．1 物理气相沉积法 | 第20-22页 |
| 2．2．2 化学气相沉积法 | 第22-24页 |
| 2．2．3 溶液成膜法 | 第24-25页 |
| 2．3 离子辅助沉积技术 | 第25-27页 |
| 2．3．1 离子辅助镀膜工作原理 | 第25-26页 |
| 2．3．2 常用离子源介绍 | 第26-27页 |
| 2．4 薄膜的形成 | 第27-32页 |
| 2．4．1 凝结过程 | 第27-30页 |
| 2．4．2 核形成与生长 | 第30-32页 |
| 2．5 TiO_2的晶格结构 | 第32-34页 |
| 第3章 光学薄膜的制备及表征 | 第34-48页 |
| 3．1 实验设备介绍 | 第34-38页 |
| 3．1．1 真空镀膜设备介绍 | 第34-35页 |
| 3．1．2 电子束蒸发装置及原理 | 第35-37页 |
| 3．1．3 离子源设备及原理 | 第37-38页 |
| 3．2 镀膜过程中参数的监控 | 第38-40页 |
| 3．2．1 真空度的测量 | 第38-39页 |
| 3．2．2 薄膜厚度的监控 | 第39-40页 |
| 3．3 薄膜的制备 | 第40-42页 |
| 3．3．1 基片的处理 | 第40-41页 |
| 3．3．2 薄膜制备过程 | 第41-42页 |
| 3．4 薄膜的光学性能及表征 | 第42-48页 |
| 3．4．1 薄膜透过率的测试 | 第42-43页 |
| 3．4．2 薄膜光学性能的表征 | 第43-46页 |
| 3．4．3 X射线衍射原理 | 第46-48页 |
| 第4章 制备工艺对氧化钛薄膜光学性能的影响 | 第48-58页 |
| 4．1 离子源对氧化钛薄膜光学性能的影响 | 第48-50页 |
| 4．2 入射角对薄膜光学性能的影响 | 第50-52页 |
| 4．3 基片温度对氧化钛薄膜光学性能的影响 | 第52-54页 |
| 4．4 氧流量对薄膜光学性能的影响 | 第54-56页 |
| 4．5 沉积速率对氧化钛薄膜光学性能的影响 | 第56-58页 |
| 第5章 退火对薄膜结构和光学性能的影响 | 第58-64页 |
| 5．1 退火对不同基片温度下制备的光学薄膜性能的影响 | 第58-61页 |
| 5．2 不同退火温度对同一基片温度下制备的光学薄膜性能的影响 | 第61-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第69页 |