| 第一章 文献综述 | 第1-24页 |
| 1、 MCM-41 类型中孔分子筛的合成 | 第8-10页 |
| 2、 MCM-41 类型中孔分子筛的合成机理 | 第10-14页 |
| ·表面活性剂在水溶液中的存在状态 | 第10-11页 |
| ·液晶模板机理 | 第11-12页 |
| ·协同模板机理 | 第12-13页 |
| ·层状向六方相结构转变机理 | 第13-14页 |
| 3、 MCM-41 类型中孔分子筛的常用表征方法 | 第14-19页 |
| 4、 MCM-41 类型中孔分子筛的应用 | 第19-22页 |
| ·氧化还原催化剂 | 第20-21页 |
| ·催化剂的载体 | 第21-22页 |
| ·吸附剂 | 第22页 |
| ·其他领域的应用 | 第22页 |
| 5、本文主要的研究工作 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法 | 第24-27页 |
| 1、主要试剂、设备及仪器 | 第24-25页 |
| 2、催化剂合成方法 | 第25-26页 |
| 3、催化剂的表征方法 | 第26页 |
| 4、催化剂活性评价方法 | 第26-27页 |
| 第三章 Bi-Si 中孔分子筛的合成、表征与催化性能 | 第27-38页 |
| 1、纯硅 MCM-41 中孔分子筛的合成与表征 | 第27-28页 |
| ·水热法合成纯硅 MCM-41 中孔分子筛 | 第27页 |
| ·室温法合成纯硅 MCM-41 中孔分子筛 | 第27页 |
| ·XRD 光谱分析 | 第27-28页 |
| 2、 Bi-Si 中孔分子筛的合成、表征与催化性能 | 第28-38页 |
| ·水热法合成 Bi-Si 中孔分子筛 | 第28页 |
| ·催化剂孔结构的表征 | 第28-33页 |
| ·XRD 光谱分析 | 第28-30页 |
| ·N2 吸附等温线 | 第30-32页 |
| ·热重分析 | 第32页 |
| ·SEM 照片 | 第32-33页 |
| ·铋的配位状态的表征 | 第33-35页 |
| ·FT-IR 光谱分析 | 第33-34页 |
| ·UV-Vis 光谱分析 | 第34-35页 |
| ·催化氧化性能 | 第35-38页 |
| ·苯乙烯氧化的反应路径 | 第35-36页 |
| ·催化剂活性评价 | 第36-38页 |
| 第四章 Bi-Si 中孔分子筛合成条件的优化 | 第38-47页 |
| 1、水量的影响 | 第38-40页 |
| 2、模板剂用量的影响 | 第40-42页 |
| 3、pH 值的影响 | 第42-44页 |
| 4、晶化温度和晶化时间的影响 | 第44-47页 |
| 第五章 苯乙烯催化氧化反应机理及反应条件的优化 | 第47-55页 |
| 1、苯乙烯氧化的反应机理 | 第47-49页 |
| 2、较优反应条件的选择 | 第49-55页 |
| ·溶剂种类的影响 | 第49-50页 |
| ·反应时间的影响 | 第50-51页 |
| ·反应温度的影响 | 第51页 |
| ·双氧水浓度的影响 | 第51-52页 |
| ·催化剂用量的影响 | 第52-53页 |
| ·溶剂用量的影响 | 第53-55页 |
| 第六章 不同硅源合成 Bi-Si 中孔分子筛及其催化性能 | 第55-60页 |
| 1、分别以硅酸钠、正硅酸乙酯、硅溶胶为硅源合成 Bi-Si 中孔分子筛 | 第55页 |
| 2、催化剂的表征 | 第55-57页 |
| ·XRD 光谱分析 | 第55-56页 |
| ·UV-Vis 光谱分析 | 第56-57页 |
| 3、催化剂活性评价 | 第57-60页 |
| 第七章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 在读期间发表论文 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
