| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| 1．1 传统低压阳极氧化工艺 | 第11-18页 |
| 1．1．1 阳极氧化电解液组成工艺研究 | 第11-15页 |
| 1．1．2 电解工艺参数对铝阳极氧化的影响 | 第15页 |
| 1．1．3 低压多孔阳极氧化膜的结构及其应用 | 第15-17页 |
| 1．1．4 低压阳极氧化膜的形成机理研究 | 第17-18页 |
| 1．2 铝及其合金的高压阳极氧化研究 | 第18-22页 |
| 1．2．1 微弧氧化(Micro Arc Oxidation,简称 MAO)技术 | 第18-19页 |
| 1．2．2 铝在抑弧状态下的高压阳极氧化 | 第19-21页 |
| 1．2．3 高压阳极氧化技术的工艺方法及膜层性能 | 第21-22页 |
| 1．3 铝表面高压阳极氧化处理课题的选择 | 第22-24页 |
| 第2章 铝在混酸液中HVAF 的性能、形貌、结构及组成 | 第24-39页 |
| 2．1 实验方法与条件 | 第24-25页 |
| 2．2 膜层性能、形貌和结构检测 | 第25-26页 |
| 2．2．1 外观检测 | 第25页 |
| 2．2．2 膜层厚度 | 第25页 |
| 2．2．3 显微硬度 | 第25页 |
| 2．2．4 耐蚀性能 | 第25-26页 |
| 2．2．5 HVAF 形貌分析 | 第26页 |
| 2．2．6 HVAF 的晶态结构分析 | 第26页 |
| 2．2．7 HVAF 的膜层组成元素分析 | 第26页 |
| 2．3 结果与讨论 | 第26-37页 |
| 2．3．1 铝在混酸体系中的电化学特性曲线 | 第26-28页 |
| 2．3．2 混酸体系HVAF 与电化学沉积陶瓷膜性能的比较 | 第28页 |
| 2．3．3 电解质种类对HVAF 形貌的影响 | 第28-31页 |
| 2．3．4 四组分体系中HVAF 形貌的影响因素研究 | 第31-34页 |
| 2．3．5 峰值电流密度对铝HVAF 膜孔结构的影响 | 第34-35页 |
| 2．3．6 铝HVAF 的截面和致密层形貌 | 第35-36页 |
| 2．3．7 铝HVAF 的X 射线衍射分析 | 第36页 |
| 2．3．8 铝HVAF 的X 射线能量散射谱分析(EDS) | 第36-37页 |
| 2．4 小结 | 第37-39页 |
| 第3章 PTFE/Al_2O_3复合膜的制备研究 | 第39-44页 |
| 3．1 试验部分 | 第39-40页 |
| 3．2 结果与讨论 | 第40-41页 |
| 3．2．1 高压阳极氧化过程中的电化学特性曲线 | 第40页 |
| 3．2．2 PTFE 乳液浓度对复合氧化膜性能的影响 | 第40-41页 |
| 3．3 氧化膜的表征与分析 | 第41-43页 |
| 3．3．1 微观形貌分析 | 第41-42页 |
| 3．3．2 膜层组成元素电子能谱分析 | 第42-43页 |
| 3．4 小结 | 第43-44页 |
| 第4章 多孔氧化铝膜表面纳米TiO_2的制备及其紫外光光催化性能 | 第44-53页 |
| 4．1 试验用品与试验方法 | 第45-46页 |
| 4．1．1 试验用品 | 第45页 |
| 4．1．2 试验方法 | 第45页 |
| 4．1．3 TiO_2 膜的形貌、结构分析 | 第45页 |
| 4．1．4 TiO_2 膜的紫外光光催化降解性能 | 第45-46页 |
| 4．2 结果与讨论 | 第46-51页 |
| 4．2．1 不同方法所得纳米TiO_2 的形貌 | 第46-48页 |
| 4．2．2 TiO_2 的晶态结构分析 | 第48-49页 |
| 4．2．3 纳米结构TiO_2 的紫外光催化性能研究 | 第49-51页 |
| 4．3 小结 | 第51-53页 |
| 第5章 铝在混酸体系中HVAF 的成膜过程分析 | 第53-60页 |
| 5．1 试验方法及条件 | 第53页 |
| 5．2 结果与讨论 | 第53-59页 |
| 5．2．1 混酸液中HVAF 形成过程的极化特性曲线 | 第53-55页 |
| 5．2．2 不同氧化阶段的HVAF 的形貌 | 第55-57页 |
| 5．2．3 不同氧化阶段的HVAF 的X 射线衍射分析 | 第57-58页 |
| 5．2．4 多孔铝HVAF 的形成过程 | 第58-59页 |
| 5．3 小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附录:攻读学位期间所发表的学术论文 | 第72页 |
