离子交换玻璃光波导器件制备技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-27页 |
| ·集成光学简介 | 第8-9页 |
| ·集成光学技术 | 第9-12页 |
| ·离子交换工艺 | 第12-15页 |
| ·熔盐离子交换工艺 | 第13页 |
| ·银膜离子交换 | 第13-14页 |
| ·离子交换工艺的特点 | 第14-15页 |
| ·玻璃光波导的应用和技术现状 | 第15-24页 |
| ·无源器件 | 第15-23页 |
| ·离子交换波导激光器/放大器 | 第23-24页 |
| ·光调制器 | 第24页 |
| ·计算波导全息 | 第24页 |
| ·本研究报告的主要内容 | 第24-27页 |
| 第二章 离子交换玻璃波导原理 | 第27-62页 |
| ·离子交换形成的浓度分布 | 第27-33页 |
| ·离子交换过程 | 第27-29页 |
| ·离子扩散过程 | 第29-33页 |
| ·折射率变化 | 第33-36页 |
| ·波导模场分布的计算 | 第36-44页 |
| ·等效折射率法 | 第37-40页 |
| ·数值法 | 第40-44页 |
| ·光波导的性能测试方法 | 第44-57页 |
| ·模场强度分布 | 第45页 |
| ·棱镜耦合法测量平板光波导性能 | 第45-53页 |
| ·折射近场法 | 第53-56页 |
| ·电子探针法测量光波导 | 第56-57页 |
| ·波导的损耗 | 第57-61页 |
| ·耦合损耗 | 第57-58页 |
| ·传输损耗 | 第58-60页 |
| ·降低器件插入损耗的途径 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第三章 离子交换玻璃光波导器件制备 | 第62-74页 |
| ·实验条件的准备 | 第62-65页 |
| ·所需实验条件 | 第62页 |
| ·离子交换炉 | 第62-63页 |
| ·基片材料选择 | 第63-65页 |
| ·掩模材料的选择 | 第65页 |
| ·熔盐成分的确定 | 第65页 |
| ·离子交换玻璃光波导制备工艺研究 | 第65-71页 |
| ·平板光波导制备工艺及测试 | 第65-67页 |
| ·条形光波导制备工艺及测试 | 第67-71页 |
| ·分析与讨论 | 第71-73页 |
| ·玻璃基片的成分的影响 | 第71页 |
| ·制作上包层降低光波导的损耗 | 第71-72页 |
| ·通过干法刻蚀工艺改善光波导特性的设想 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第四章 新型离子交换集成光学器件 | 第74-92页 |
| ·一种半导体激光器阵列的光纤耦合器 | 第74-79页 |
| ·半导体激光器及其阵列的耦合 | 第74-76页 |
| ·一种新型的半导体激光器阵列光纤耦合器 | 第76-79页 |
| ·一次离子交换工艺制备的平面集成Bragg光栅 | 第79-82页 |
| ·平面集成Bragg光栅简介 | 第79-81页 |
| ·一次离子交换工艺制备平面集成Bragg光栅 | 第81-82页 |
| ·一种新型的集成光学波导光栅器件及其原理 | 第82-91页 |
| ·集成光学波长复用/解复用器件简介 | 第82-83页 |
| ·器件描述 | 第83-84页 |
| ·理论模型 | 第84-89页 |
| ·讨论 | 第89-90页 |
| ·结论 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第五章 总结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-102页 |
| 发表文章和申请的专利 | 第102-103页 |
| 作者简历 | 第103-104页 |
| 致谢 | 第104页 |
