纳米级铜锌合金薄膜的研制及其基础研究
第一章 文献综述 | 第1-24页 |
·铜锌合金粉简介 | 第8-12页 |
·铜锌合金粉的性质和用途 | 第8页 |
·铜金粉的研究现状 | 第8-10页 |
·铜金粉的传统生产工艺及其产品特点 | 第10-12页 |
·纳米级片状铜锌合金粉及其生产工艺的提出 | 第12页 |
·金属及合金纳米薄膜的制备 | 第12-22页 |
·纳米薄膜简介 | 第12-13页 |
·金属及合金纳米薄膜的制备方法 | 第13-22页 |
·本文的研究目的及意义 | 第22-24页 |
第二章 实验方法 | 第24-34页 |
·溅射镀膜实验装置 | 第24-26页 |
·原材料 | 第26页 |
·实验药剂 | 第26页 |
·实验过程 | 第26-28页 |
·实验前的准备 | 第26-27页 |
·实验条件的选择 | 第27页 |
·实验步骤 | 第27-28页 |
·铜锌合金靶材及薄膜的分析检测 | 第28-34页 |
·铜锌合金靶材的成份分析 | 第28-29页 |
·铜锌合金薄膜表面形貌的观测 | 第29-30页 |
·铜锌合金薄膜表面光泽度的测定 | 第30-31页 |
·铜锌合金薄膜的成份分析 | 第31-32页 |
·铜锌合金薄膜厚度的测定 | 第32-34页 |
第三章 实验结果与讨论 | 第34-61页 |
·铜锌合金靶材与铜锌合金薄膜的检测结果与讨论 | 第34-51页 |
·铜锌合金靶材的成份分析结果与讨论 | 第34-35页 |
·铜锌合金薄膜表面形貌的观测结果与讨论 | 第35-44页 |
·铜锌合金薄膜表面光泽度的测定结果与讨论 | 第44-45页 |
·铜锌合金薄膜的成份分析结果与讨论 | 第45-48页 |
·铜锌合金薄膜厚度的测定结果与讨论 | 第48-51页 |
·溅射工艺条件对铜锌合金薄膜生长速率的影响 | 第51-56页 |
·溅射电压对薄膜生长速率的影响 | 第51-52页 |
·靶基距对薄膜生长速率的影响 | 第52-54页 |
·溅射压力对薄膜生长速率的影响 | 第54-55页 |
·溅射时间对薄膜生长速率的影响 | 第55-56页 |
·最佳溅射工艺参数的确定 | 第56-57页 |
·溅射铜锌合金薄膜微观机制的探讨 | 第57-61页 |
·固相铜锌合金核心形成过程的热力学分析 | 第57-59页 |
·固相铜锌合金的形核率 | 第59-61页 |
第四章 结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
致谢 | 第66页 |