准分子激光晶化多晶硅的研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-15页 |
| ·TFT有源矩阵液晶显示 | 第7-10页 |
| ·TFT有源矩阵液晶显示的分类和特点 | 第8页 |
| ·TFT器件结构和工作原理 | 第8-10页 |
| ·多晶硅薄膜的制备与表征 | 第10-12页 |
| ·多晶硅薄膜的制备方法 | 第10-11页 |
| ·多晶硅薄膜的表征方法 | 第11-12页 |
| ·小结和本论文的主要研究内容 | 第12-13页 |
| 参考文献 | 第13-15页 |
| 第二章 多晶硅薄膜的电学理论 | 第15-28页 |
| ·多晶硅薄膜的导电模型 | 第15-24页 |
| ·多晶硅导电模型基本特征 | 第15-17页 |
| ·多晶硅导电模型的Seto理论 | 第17-24页 |
| ·多晶硅薄膜的掺杂效应和氢化处理效应 | 第24-26页 |
| ·多晶硅薄膜的掺杂效应 | 第24-25页 |
| ·多晶硅薄膜的氢化处理效应 | 第25-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第三章 准分子激光晶化多晶硅的研究 | 第28-42页 |
| ·准分子激光制备多晶硅的晶化机理 | 第28-30页 |
| ·准分子激光器工作原理 | 第30-32页 |
| ·多晶硅薄膜的制备与表征 | 第32-39页 |
| ·多晶硅薄膜的制备 | 第32-33页 |
| ·多晶硅薄膜的表征 | 第33-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第四章 金属诱导下激光晶化多晶硅的研究 | 第42-50页 |
| ·金属诱导晶化多晶硅的机理 | 第42-43页 |
| ·金属诱导下激光晶化多晶硅的机理探讨 | 第43-45页 |
| ·金属诱导下激光晶化多晶硅的实验与测试 | 第45-48页 |
| ·非晶硅双界面晶化多晶硅的研究 | 第45-47页 |
| ·非晶硅的定向生长多晶硅的研究 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第五章 TFT-OLED样机制作及本论文总结 | 第50-55页 |
| ·旧设备改造与新设备的调试 | 第50-52页 |
| ·驱动OLED的双管TFT的设计与测试 | 第52-54页 |
| ·本论文内容总结 | 第54-55页 |
| 附录 | 第55-56页 |
| 作者简介 | 第55页 |
| 发表的主要学术论文与申请专利 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
