| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-29页 |
| ·铁电材料 | 第18-21页 |
| ·电介质在DRAM的应用 | 第21-25页 |
| ·钛酸锶钡多层膜的研究背景 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-29页 |
| 第二章 钛酸锶钡薄膜的制备和表征方法 | 第29-45页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第29-33页 |
| ·样品电极的制备 | 第33-36页 |
| ·钛酸锶钡的结构 | 第36-41页 |
| ·薄膜结构、性能的表征方法 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 第三章 周期厚度对钛酸锶钡多层膜的影响 | 第45-66页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·BaTiO_3／Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3多层膜的介电性质 | 第45-51页 |
| ·BaTiO_3／Ba_(0.2)Sr_(0.3)TiO_3多层膜的介电性质 | 第51-55页 |
| ·BaTiO_3／SrTiO_3多层膜的电学性质 | 第55-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 第四章 后处理对钛酸锶钡多层膜的影响 | 第66-83页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·Maxwell-Wagner效应 | 第66-73页 |
| ·后处理与多层膜的介电增强效应 | 第73-81页 |
| ·小结 | 第81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 第五章 薄膜厚度对钛酸锶钡多层膜的影响 | 第83-100页 |
| ·引言 | 第83页 |
| ·界面数与多层膜的介电性质 | 第83-91页 |
| ·周期厚度与多层膜的介电性质 | 第91-98页 |
| ·小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-100页 |
| 第六章 激光能量对钛酸锶钡多层膜的影响 | 第100-108页 |
| ·引言 | 第100页 |
| ·BaTiO_3／SrTiO_3多层膜的介电性质 | 第100-107页 |
| ·小结 | 第107-108页 |
| 第七章 总结与展望 | 第108-110页 |
| ·总结 | 第108-109页 |
| ·展望 | 第109-110页 |
| 论文创新点 | 第110-111页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第111-113页 |
| 致谢 | 第113页 |