液晶实时掩膜光刻技术研究
| 第一章 前言 | 第1-36页 |
| ·连续微结构制作技术 | 第10-22页 |
| ·直写技术 | 第11页 |
| ·灰阶掩膜技术 | 第11-12页 |
| ·软光刻技术 | 第12-13页 |
| ·干涉光刻技术 | 第13-14页 |
| ·同步辐射X射线光刻技术 | 第14-16页 |
| ·原子光刻技术 | 第16-18页 |
| ·双光子吸收飞秒微制备技术 | 第18-20页 |
| ·微立体光刻技术 | 第20-22页 |
| ·动态立体掩膜光刻技术 | 第22页 |
| ·液晶实时掩膜光刻技术 | 第22-25页 |
| ·液晶实时掩膜 | 第22-23页 |
| ·液晶实时掩膜的精细校正 | 第23-25页 |
| ·酶蚀卤化银明胶制作连续微结构 | 第25-26页 |
| ·本论文的主要内容 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-36页 |
| 第二章 液晶实时掩膜光刻技术 | 第36-73页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·空间光调制器(SLM) | 第36-49页 |
| ·数字微反射镜器件(DMD) | 第38-40页 |
| ·等离子体显示器件(PDP) | 第40-42页 |
| ·液晶显示器件(LCD) | 第42-49页 |
| ·基于等高面的液晶实时掩膜技术 | 第49-62页 |
| ·基本原理 | 第49-51页 |
| ·计算机模拟 | 第51-58页 |
| ·实验及结果 | 第58-62页 |
| ·基于灰度量化的液晶实时灰阶掩膜技术 | 第62-69页 |
| ·传统的灰阶掩膜技术 | 第62-65页 |
| ·实时灰阶掩膜技术基本原理 | 第65-66页 |
| ·计算机模拟和实验 | 第66-69页 |
| ·小结 | 第69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 第三章 液晶实时掩膜的精细校正 | 第73-89页 |
| ·引言 | 第73页 |
| ·掩膜图形的边缘优化处理 | 第73-76页 |
| ·空间像传递的非线性预校正 | 第76-79页 |
| ·曝光显影刻蚀的非线性预校正 | 第79-81页 |
| ·模拟结果和实验结果 | 第81-84页 |
| ·象素栅格的影响 | 第84-86页 |
| ·小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 第四章 酶蚀卤化银明胶制作连续微结构 | 第89-101页 |
| ·引言 | 第89-90页 |
| ·卤化银明胶酶蚀成像原理 | 第90-93页 |
| ·深刻蚀过程理论分析 | 第93-95页 |
| ·实验过程及结果 | 第95-99页 |
| ·小结 | 第99页 |
| 参考文献 | 第99-101页 |
| 第五章 总结 | 第101-103页 |
| 附录1: 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第103-104页 |
| 附录2: 攻读硕士学位期间承担的科研任务 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
