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固体电解质陶瓷(玻璃)与金属的场致扩散连接结合机理研究

1.绪论第1-19页
   ·概述第9页
   ·陶瓷/金属连接技术的发展第9-17页
     ·现有焊接技术及存在问题第9-11页
     ·场致扩散连接的研究进展第11-12页
     ·陶瓷/金属场致扩散连接亟待解决的问题第12-17页
   ·本项研究的主要内容和学术思想第17-19页
2.硼硅酸盐玻璃与金属的场致扩散连接第19-50页
   ·引言第19页
   ·试验材料及试验方法第19-22页
     ·试验材料的化学成分及性能第19-20页
     ·试验方法及设备第20-22页
   ·硼硅酸盐玻璃与金属连接的试验结果与分析第22-47页
     ·界面离子流及其影响因素第22-24页
     ·工艺参数对连接质量的影响第24-32页
     ·钠硼硅玻璃与单晶硅连接界面的微观结构及其形成机制分析第32-36页
     ·钠硼硅玻璃与铝及kovar合金连接的试验结果分析第36-47页
   ·钠硼硅玻璃与金属连接界面过渡层形成分析第47-48页
     ·接合界面的阳极氧化第47页
     ·界面的氧化物固相反应第47-48页
   ·本章小结第48-50页
3.电解质陶瓷与金属的场致扩散连接第50-73页
   ·引言第50页
   ·试验材料及方法第50-55页
     ·固体电解质陶瓷的物理化学性质第50-55页
     ·试验方法及设备第55页
     ·试验方法及设备第55页
   ·试验结果与分析第55-70页
     ·工艺参数对连接过程的影响第55-59页
     ·陶瓷/Al结合界面微观组织分析第59-67页
     ·陶瓷/金属结合强度分析第67-70页
   ·电解质陶瓷与金属的结合机理分析第70-72页
     ·离子迁移和界面氧化物形成第70-71页
     ·界面固相扩散及氧化物化合接合第71-72页
   ·本章小结第72-73页
4 金属基复合材料SiCp/Al与金属(玻璃)的连接第73-86页
   ·金属基复合材料的电子封装的应用第73-74页
     ·电子封装材料的性能要求第73页
     ·金属基复合材料在电子封装的应用第73-74页
   ·金属基复合材料连接时的主要问题第74-75页
   ·试验材料及试验方法第75页
     ·SiCp/Al复合材料的制备第75页
     ·试验方法及设备第75页
   ·试验结果及分析第75-84页
     ·工艺参数及连接质量第75-78页
     ·结合界面的微观分析第78-83页
     ·界面结合机理分析第83-84页
   ·本章小结第84-86页
5 场致扩散连接形成机理分析第86-103页
   ·引言第86页
   ·界面静电力及镜像吸附作用第86-88页
     ·界面镜像吸附作用第86-87页
     ·静电力及界面键合第87-88页
   ·结合界面的固相化学反应及过渡区形成第88-91页
     ·界面离子扩散及阳极氧化反应第88-89页
     ·固相反应及过渡区形成第89-91页
   ·界面离子扩散动力学分析第91-96页
     ·扩散界面的边界条件第91页
     ·界面扩散的动力学第91-94页
     ·场致扩散连接条件下的界面扩散第94-96页
   ·陶瓷(玻璃)/金属连接界面反应的热力学分析第96-99页
     ·界面反应的Gibbs自由能及反应平衡常数第96-97页
     ·界面反应过程的热力学分析第97-99页
   ·讨论第99-101页
   ·本章小结第101-103页
6 接头残余应力对连接质量的影响第103-115页
   ·引言第103-104页
   ·关于陶瓷/金属扩散焊接头残余应力的分析第104-112页
     ·陶瓷/金属扩散焊接头残余应力的分析方法第104-107页
     ·FDB接头残余应力解析法分析第107-111页
     ·实际接头应力计算第111-112页
   ·讨论第112-114页
   ·本章小结第114-115页
7.结论第115-117页
参考文献第117-122页
独创性说明第122-123页
致谢第123-124页
攻读博士学位期间发表的学术论文、专利、获奖等情况第124-126页
主要符号表第126页

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