| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-18页 |
| §1．1 研究太阳能电池的意义 | 第8-9页 |
| §1．2 单晶硅电池的发展 | 第9-10页 |
| §1．3 多晶硅电池的发展 | 第10-11页 |
| §1．4 开题思想 | 第11-14页 |
| 第一章参考文献 | 第14-18页 |
| 第二章 化学腐蚀法织构多晶硅电池绒面的研究 | 第18-35页 |
| §2．1 单晶硅电池的绒面织构技术 | 第18-20页 |
| §2．1．1 绒面的定义制作工艺 | 第18-19页 |
| §2．1．2 绒面的减反射作用 | 第19-20页 |
| §2．2 多晶硅电池的绒面织构技术 | 第20页 |
| §2．3 化学腐蚀法原理 | 第20-22页 |
| §2．4 影响化学腐蚀的因素 | 第22-25页 |
| §2．4．1 腐蚀液成分腐蚀速率的影响 | 第22-23页 |
| §2．4．2 成分配比对硅表面形貌的影响 | 第23-25页 |
| §2．5 多孔硅的形成机制 | 第25-27页 |
| §2．6 化学腐蚀多晶硅表面的反射特性 | 第27-32页 |
| §2．6．1 化学腐蚀制备技术 | 第27页 |
| §2．6．2 表面反射特性与表面形貌、腐蚀条件的关系 | 第27-31页 |
| §2．6．3 化学腐蚀和NaOH腐蚀的绒面的反射率比较 | 第31-32页 |
| §2．7 反应机制 | 第32-33页 |
| 第二章参考文献 | 第33-35页 |
| 第三章 机械刻槽电池 | 第35-52页 |
| §3．1 太阳电池的基本原理和特性 | 第35-38页 |
| §3．1．1 太阳电池的基本结构和原理 | 第35-36页 |
| §3．1．2 P—N同质结光电池的电流—电压特性和基本参数 | 第36-38页 |
| §3．2 机械刻槽电池结构及其优点 | 第38-40页 |
| §3．2．1 栅指电极遮光损失减小 | 第38-39页 |
| §3．2．2 淡磷、浓磷分区扩散克服了一次性磷扩散给电池设计带来的困难 | 第39-40页 |
| §3．2．3 热生长二氧化硅的作用 | 第40页 |
| §3．3 机械刻槽电池的设计 | 第40-43页 |
| §3．4 机械刻槽埋栅电极硅太阳电池的工艺研究 | 第43-47页 |
| §3．4．1 材料选择 | 第43页 |
| §3．4．2 工艺流程 | 第43-44页 |
| §3．4．3 工艺研究 | 第44-47页 |
| §3．5 结果和讨论 | 第47-50页 |
| 第三章参考文献 | 第50-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
