| 第一章 引言 | 第1-22页 |
| §1．1衍射光学元件的广泛应用 | 第9-12页 |
| §1．1．1衍射光栅 | 第9-10页 |
| §1．1．2分束与整形 | 第10页 |
| §1．1．3图像处理 | 第10-11页 |
| §1．1．4具有亚波长结构的衍射光学元件的应用 | 第11-12页 |
| §1．2衍射光学元件的分析方法 | 第12-17页 |
| §1．2．1等效介质理论 | 第13-14页 |
| §1．2．2标量衍射理论 | 第14-15页 |
| §1．2．3矢量衍射理论 | 第15-17页 |
| §1．3衍射光学元件的制作方法 | 第17-21页 |
| §1．3．1早期的制作方法 | 第19页 |
| §1．3．2VLSI的制作方法 | 第19-20页 |
| §1．3．3激光直写技术 | 第20-21页 |
| §1．4论文的主要工作 | 第21-22页 |
| 第二章 亚波长二维周期网格光栅的耦合波理论分析 | 第22-45页 |
| §2．1概述 | 第22页 |
| §2．2单台阶亚波长圆柱形网格光栅的矢量衍射特性 | 第22-37页 |
| §2．2．1单台阶亚波长圆柱形网格光栅结构 | 第22-24页 |
| §2．2．2单台阶亚波长圆柱形网格光栅耦合波分析 | 第24-29页 |
| §2．2．3单台阶亚波长圆柱形网格光栅抗反射特性 | 第29-36页 |
| §2．2．4小结 | 第36-37页 |
| §2．3多台阶亚波长圆锥轮廓网格光栅的矢量衍射特性 | 第37-45页 |
| §2．3．1多台阶亚波长圆锥轮廓网格光栅的结构 | 第37-39页 |
| §2．3．2多台阶亚波长圆锥轮廓网格光栅的耦合波分析 | 第39-40页 |
| §2．3．3多台阶亚波长圆锥轮廓网格光栅的抗反射特性 | 第40-44页 |
| §2．3．4小结 | 第44-45页 |
| 第三章 衍射光学元件的实验制作、测试与分析 | 第45-61页 |
| §3．1衍射光学元件制作的工艺过程和基本原理 | 第45-49页 |
| §3．1．1基片预处理、涂胶和前烘 | 第45-46页 |
| §3．1．2曝光 | 第46-47页 |
| §3．1．3显影与坚膜 | 第47页 |
| §3．1．4蚀刻与去胶工艺 | 第47-48页 |
| §3．1．5检测方法 | 第48-49页 |
| §3．2刻蚀表面面形的理论分析 | 第49-61页 |
| §3．2．1表面面形影响刻蚀速率 | 第49-50页 |
| §3．2．2刻蚀表面面形变化方程 | 第50-52页 |
| §3．2．3准单向刻蚀效应 | 第52-59页 |
| §3．2．4小结 | 第59-61页 |
| 第四章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-74页 |
| 作者简介 | 第74-75页 |
| 在读期间发表和待发表的学术论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
