| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·ZnO的研究历史和现状 | 第8-10页 |
| ·ZnO的广泛应用 | 第10-12页 |
| ·紫外光探测器 | 第10页 |
| ·与GaN互作缓冲层 | 第10页 |
| ·光电器件单片集成用 | 第10-11页 |
| ·ZnO发光管和激光器 | 第11页 |
| ·全ZnO集成器件 | 第11页 |
| ·表面声波器件 | 第11-12页 |
| ·选题依据和本人工作 | 第12-14页 |
| 2 ZnO的基本性质及ZnO薄膜的制备技术 | 第14-26页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第14-17页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第14页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO的固有缺陷 | 第15-17页 |
| ·ZnO的荧光和激射特性 | 第17页 |
| ·纳米ZnO薄膜的制备方法 | 第17-26页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第18页 |
| ·金属有机物气相沉积(MOCVD) | 第18-19页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第19页 |
| ·溅射(Sputter) | 第19-20页 |
| ·原子层外延(ALE) | 第20页 |
| ·溶胶凝胶(Sol-gel)法 | 第20页 |
| ·电子束蒸发(E-beam evaporation)法 | 第20-26页 |
| 3 ZnO薄膜的主要测试方法 | 第26-32页 |
| ·X射线衍射法 | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜术 | 第27-28页 |
| ·紫外-可见吸收光谱法 | 第28-29页 |
| ·红外吸收光谱法 | 第29-30页 |
| ·荧光分析法 | 第30-32页 |
| 4 Mg掺杂ZnO薄膜的制备及其结构与光学特性研究 | 第32-41页 |
| ·Mg掺杂ZnO薄膜的溶胶-凝胶法的制备 | 第32-33页 |
| ·Mg掺杂浓度对ZnO薄膜的结构及光学性质的影响 | 第33-40页 |
| ·XRD分析 | 第34-35页 |
| ·AFM分析 | 第35-38页 |
| ·透射光谱分析 | 第38-39页 |
| ·PL分析 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 5 ZnO/TiO_2复合薄膜的制备及其结构与光学特性研究 | 第41-49页 |
| ·Si基底上ZnO/TiO_2复合膜的电子束蒸发法的制备 | 第41-42页 |
| ·生长温度对ZnO/TiO_2薄膜的结构及光学性质的影响 | 第42-43页 |
| ·XRD分析 | 第42-43页 |
| ·PL分析 | 第43页 |
| ·退火温度对ZnO/TiO_2薄膜的结构及光学性质的影响 | 第43-48页 |
| ·XRD分析 | 第44-45页 |
| ·AFM分析 | 第45-47页 |
| ·PL分析 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 6 课题总结 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57页 |
