| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 图表索引 | 第11-15页 |
| 符号索引 | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-33页 |
| ·微机电系统与微细加工 | 第16-17页 |
| ·金属材料微细加工的种类及发展 | 第17-28页 |
| ·LIGA 及LIGA-like 技术 | 第17-19页 |
| ·EFAB 技术 | 第19-20页 |
| ·局部电化学沉积技术 | 第20-21页 |
| ·基于STM 的微细电化学加工 | 第21-22页 |
| ·微细电火花加工 | 第22-25页 |
| ·微细电解加工 | 第25-27页 |
| ·其它加工方法 | 第27-28页 |
| ·微细电铸技术研究与发展 | 第28-30页 |
| ·本文研究的意义及主要研究内容 | 第30-33页 |
| ·研究意义 | 第30-31页 |
| ·主要研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 屏蔽模板随动式微细电铸技术方案 | 第33-47页 |
| ·电铸基本理论 | 第33-35页 |
| ·屏蔽模板随动式电铸方案 | 第35-44页 |
| ·屏蔽阳极模板随动式微细电铸方案 | 第35-42页 |
| ·简单三维实体电铸方案 | 第35-38页 |
| ·等截面扭曲实体电铸方案 | 第38-42页 |
| ·活动模板微细电铸方案 | 第42-44页 |
| ·屏蔽模板随动式微细电铸技术的影响因素分析 | 第44-45页 |
| ·屏蔽模板随动式微细电铸技术的特点 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 屏蔽模板随动式微细电铸试验系统 | 第47-65页 |
| ·随动式微细电铸试验系统总体规划 | 第47-48页 |
| ·屏蔽模板随动式微细电铸技术加工控制系统 | 第48-53页 |
| ·加工控制系统的硬件结构 | 第48-51页 |
| ·加工控制系统的硬件结构设计 | 第48-50页 |
| ·加工过程运动控制 | 第50-51页 |
| ·加工控制系统的软件设计 | 第51-53页 |
| ·LabVIEW 图形编程语言 | 第51页 |
| ·控制系统软件设计 | 第51-53页 |
| ·电解液系统 | 第53-54页 |
| ·电沉积系统 | 第54-57页 |
| ·加工状态的检测与监控 | 第57-64页 |
| ·沉积结果在线观测 | 第57-58页 |
| ·沉积厚度在线监测 | 第58-61页 |
| ·理论电沉积速率 | 第58-60页 |
| ·虚拟电量计 | 第60-61页 |
| ·电沉积状态的实时监控 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 基于紫外光刻的屏蔽阳极模板制作工艺优化研究 | 第65-86页 |
| ·引言 | 第65-66页 |
| ·屏蔽阳极模板紫外光刻工艺基础研究 | 第66-79页 |
| ·SU-8 光刻胶简介 | 第66-67页 |
| ·光刻掩模板的设计 | 第67页 |
| ·金属基底的处理 | 第67-68页 |
| ·涂胶 | 第68-72页 |
| ·SU-8 胶旋转涂铺基本工艺过程 | 第68-69页 |
| ·光刻胶旋转涂铺厚度理论 | 第69-71页 |
| ·SU-8 胶旋涂试验 | 第71-72页 |
| ·前烘 | 第72-75页 |
| ·曝光 | 第75页 |
| ·后烘 | 第75-77页 |
| ·显影 | 第77-79页 |
| ·漂洗和干燥 | 第79页 |
| ·后处理 | 第79页 |
| ·光刻工艺优化试验研究 | 第79-85页 |
| ·正交试验 | 第79-81页 |
| ·基于BP 神经网络的工艺参数优化 | 第81-85页 |
| ·BP 神经网络的设计 | 第81-82页 |
| ·BP 神经网络的训练 | 第82-83页 |
| ·BP 神经网络对尺寸偏差的预测 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第五章 屏蔽阳极模板随动式微细电铸技术基础研究 | 第86-123页 |
| ·极间电场的数学模型 | 第86-87页 |
| ·基于电场的屏蔽阳极模板随动式电铸成型模拟加工 | 第87-93页 |
| ·屏蔽阳极模板随动式电铸成型理论 | 第87-89页 |
| ·基于APDL 的随动式电铸过程模拟 | 第89-91页 |
| ·模拟结果及分析 | 第91-93页 |
| ·电沉积定域性研究 | 第93-100页 |
| ·电沉积定域性概念 | 第93-94页 |
| ·基于电场的定域性分析 | 第94-98页 |
| ·电沉积定域性试验研究 | 第98-100页 |
| ·屏蔽阳极模板随动式微细电铸的基础试验研究 | 第100-121页 |
| ·电铸溶液的选择 | 第100-101页 |
| ·屏蔽阳极模板不同基底材料对电铸结果的影响 | 第101-106页 |
| ·不溶性阳极 | 第101-102页 |
| ·可溶性阳极 | 第102-106页 |
| ·屏蔽阳极模板性能试验 | 第106-113页 |
| ·化学腐蚀 | 第106-108页 |
| ·电化学腐蚀 | 第108-111页 |
| ·机械作用 | 第111-112页 |
| ·提高屏蔽阳极模板性能的措施－“预填充”防止侧向钻蚀 | 第112-113页 |
| ·电流密度的选择及其对表面形貌的影响 | 第113-118页 |
| ·阴极极化曲线的测定 | 第113-115页 |
| ·阴极电流密度对铸件表面形貌的影响 | 第115-116页 |
| ·“突出生长”原因理论分析 | 第116-118页 |
| ·加工实例 | 第118-121页 |
| ·本章小结 | 第121-123页 |
| 第六章 活动屏蔽模板高深宽比微细电铸技术研究 | 第123-140页 |
| ·扩散传质分析 | 第123-125页 |
| ·电场分析 | 第125-129页 |
| ·理论模型 | 第125-126页 |
| ·有限元分析结果及讨论 | 第126-129页 |
| ·电铸金属微结构试验研究 | 第129-139页 |
| ·试验条件 | 第129-130页 |
| ·模板加工与处理 | 第130-131页 |
| ·单周期试验结果及讨论 | 第131-134页 |
| ·多周期高深宽比微结构加工试验结果及讨论 | 第134-139页 |
| ·后续加工处理 | 第139页 |
| ·本章小结 | 第139-140页 |
| 第七章 总结与展望 | 第140-142页 |
| ·论文研究工作总结 | 第140-141页 |
| ·对未来工作的展望 | 第141-142页 |
| 参考文献 | 第142-151页 |
| 致谢 | 第151-152页 |
| 在学期间发表的学术论文及研究成果 | 第152-153页 |