| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·材料计算与设计概述 | 第9-11页 |
| ·材料计算机模拟研究的意义 | 第9-10页 |
| ·材料模拟方法与模拟层次 | 第10页 |
| ·材料微结构及其计算尺度 | 第10-11页 |
| ·材料微结构的计算机模拟方法 | 第11-13页 |
| ·蒙特卡罗(MC)方法 | 第11页 |
| ·Monte Carlo法对晶粒长大过程的模拟 | 第11-13页 |
| ·Potts模型和Voronoi模型 | 第12页 |
| ·正常晶粒长大的模型 | 第12-13页 |
| ·异常晶粒长大的模型 | 第13页 |
| ·Monte Carlo方法模拟晶粒长大过程的发展现状 | 第13-14页 |
| ·本文的研究内容 | 第14-15页 |
| ·研究目标 | 第14页 |
| ·主要研究内容和技术路线 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-18页 |
| 第二章 Monte Carlo法及其模型的建立 | 第18-26页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·随机数的产生 | 第18-20页 |
| ·平方取中法 | 第18-19页 |
| ·移位指令加法 | 第19页 |
| ·同余法 | 第19-20页 |
| ·Metropolis算法 | 第20-21页 |
| ·Metropolis基本算法 | 第20-21页 |
| ·Metropolis改进算法 | 第21页 |
| ·模型的建立及模拟过程 | 第21-23页 |
| ·开发环境 | 第22页 |
| ·数据结构 | 第22页 |
| ·周期性边界条件的引入 | 第22-23页 |
| ·初始组织的生成 | 第23页 |
| ·晶粒长大过程的演化 | 第23页 |
| ·模拟结果的计算机图像处理 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-26页 |
| 第三章 测量晶粒度的递归统计法 | 第26-33页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·模型的分级 | 第26-28页 |
| ·Potts模型 | 第26-27页 |
| ·模型的分级 | 第27-28页 |
| ·递归统计方法 | 第28-30页 |
| ·递归统计法与其他方法的比较 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第四章 二维空间下正常晶粒长大的模拟 | 第33-45页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·建立模型 | 第33-36页 |
| ·正常晶粒长大的模型 | 第33-34页 |
| ·存在第二相粒子的模型 | 第34-35页 |
| ·第二相粒子形状与大小 | 第34-35页 |
| ·弥散的第二相粒子 | 第35页 |
| ·模拟试验参数的设定 | 第35-36页 |
| ·模拟实验结果及分析 | 第36-43页 |
| ·晶粒微观组织的演变 | 第36-38页 |
| ·正常晶粒的长大 | 第36页 |
| ·静态第二相粒子影响晶粒的长大 | 第36页 |
| ·弥散第二相粒子影响晶粒的长大 | 第36-38页 |
| ·晶粒长大指数 | 第38页 |
| ·静态第二相粒子对晶粒长大指数的影响 | 第38页 |
| ·弥散第二相粒子对晶粒长大指数的影响 | 第38页 |
| ·晶粒形态及其分布 | 第38-43页 |
| ·小结 | 第43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第五章 二维空间下异常晶粒长大的模拟 | 第45-57页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·建立模型 | 第45-48页 |
| ·A.D.Rollett和D.J.Srolovitz的物理模型 | 第46-47页 |
| ·各向异性的晶界迁移率带来的影响 | 第47-48页 |
| ·模拟过程的计算机处理步骤 | 第48-49页 |
| ·模拟的微观组织形态 | 第49-52页 |
| ·只有一个大异常晶粒的模拟 | 第49-50页 |
| ·占有一定面积比的异常晶粒的模拟 | 第50-52页 |
| ·结果分析与处理方法 | 第52-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第六章 总结 | 第57-58页 |
| ·递归统计法测定晶粒度 | 第57页 |
| ·改进的Monte Carlo方法模拟晶粒析出长大的特点 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第59页 |
