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基于刚性散体的抛光头柔度控制与抛光技术研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-26页
   ·课题的来源及研究的背景和意义第10-13页
     ·课题的来源第10页
     ·研究的背景第10-12页
     ·研究的意义第12-13页
   ·影响抛光的因素第13-14页
   ·几种主要的抛光方法第14-16页
     ·机械抛光法第14页
     ·化学抛光法第14页
     ·电化学抛光法第14-15页
     ·超声波抛光法第15页
     ·流体抛光法第15页
     ·离子束抛光法第15页
     ·柔性抛光法第15-16页
   ·抛光材料的去除模型第16-18页
     ·材料去除机理第16-17页
     ·材料去除的数学模型第17-18页
   ·国内外曲面抛光技术的发展现状第18-22页
     ·关于柔性抛光的主要成果第18-21页
     ·现有柔性抛光方法存在问题第21-22页
   ·本课题抛光技术原理和特点第22-24页
     ·基本原理第22-23页
     ·基本特点第23-24页
   ·本文研究的主要内容和研究方法第24-25页
     ·研究目标及内容第24页
     ·研究方法第24-25页
   ·本章小结第25-26页
第二章 铁磁散体的磁特性及力学基础第26-36页
   ·磁性材料的磁学性质第26-30页
   ·偶极子物理模型第30-32页
   ·散体的力学特性第32-35页
     ·库仑(Coulomb)公式第32-33页
     ·莫尔·库仑强度理论第33-35页
   ·本章小结第35-36页
第三章 磁控散体抛光头柔度实时可调机理的研究第36-46页
   ·磁场对铁磁性散体的作用机理第36-37页
   ·理想铁球散体在磁场作用下的力学模型第37-41页
     ·理想散体磁致法向应力σ_(HL)第38-39页
     ·理想散体磁致内聚力C_(HL)第39页
     ·理想散体磁致内摩擦角φ_(HL)第39-40页
     ·理想散体磁致抗剪应力τ_(HL)模型第40页
     ·理想散体法向应力σ_(0L)第40-41页
     ·理想散体非磁致抗剪应力τ_(0L)模型第41页
     ·理想铁磁散体的抗剪应力模型第41页
   ·由试验得到抗剪力模型第41-45页
     ·试验装置的设计第41-43页
     ·试验方法第43页
     ·试验结果与分析第43-45页
   ·本章小结第45-46页
第四章 基于机器人的柔性抛光试验系统的建立与抛光试验第46-57页
   ·磁控柔性抛光的作用原理第46-47页
   ·基于机器人的柔性抛光试验系统的建立第47-52页
     ·机器人系统的构成第47-48页
     ·基于机器人的模具自由曲面抛光系统第48-50页
     ·磁控柔性抛光工具第50-52页
   ·抛光试验及试验结果分析第52-55页
     ·抛光时间对去除量的影响第52页
     ·磨头转速对去除量的影响第52-53页
     ·磁场强度对去除量的影响第53-54页
     ·抛光头下压量对去除量的影响第54-55页
     ·磨料对材料去除量的影响第55页
     ·磁控散体抛光粗糙度的试验研究第55页
   ·本章小结第55-57页
第五章 多自由度数控柔性抛光机床的设计第57-78页
   ·数控机床概述第57-59页
     ·数控机床的组成第57-58页
     ·数控机床的特点第58页
     ·数控机床的设计准则第58-59页
   ·数控抛光机床的结构设计第59-68页
     ·功能分析第59-60页
     ·总体设计方案第60页
     ·传动系统设计第60-68页
   ·数控抛光机床数控系统的设计第68-75页
     ·控制方案的选择第68-70页
     ·数控系统的硬件及工作原理第70-75页
   ·数控系统的工艺流程第75-77页
   ·本章小结第77-78页
第六章 结论第78-80页
   ·全文总结第78-79页
   ·未来展望第79-80页
参考文献第80-85页
致谢第85-86页
攻读学位期间发表的学术论文目录第86页

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