摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
·课题的来源及研究的背景和意义 | 第10-13页 |
·课题的来源 | 第10页 |
·研究的背景 | 第10-12页 |
·研究的意义 | 第12-13页 |
·影响抛光的因素 | 第13-14页 |
·几种主要的抛光方法 | 第14-16页 |
·机械抛光法 | 第14页 |
·化学抛光法 | 第14页 |
·电化学抛光法 | 第14-15页 |
·超声波抛光法 | 第15页 |
·流体抛光法 | 第15页 |
·离子束抛光法 | 第15页 |
·柔性抛光法 | 第15-16页 |
·抛光材料的去除模型 | 第16-18页 |
·材料去除机理 | 第16-17页 |
·材料去除的数学模型 | 第17-18页 |
·国内外曲面抛光技术的发展现状 | 第18-22页 |
·关于柔性抛光的主要成果 | 第18-21页 |
·现有柔性抛光方法存在问题 | 第21-22页 |
·本课题抛光技术原理和特点 | 第22-24页 |
·基本原理 | 第22-23页 |
·基本特点 | 第23-24页 |
·本文研究的主要内容和研究方法 | 第24-25页 |
·研究目标及内容 | 第24页 |
·研究方法 | 第24-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
第二章 铁磁散体的磁特性及力学基础 | 第26-36页 |
·磁性材料的磁学性质 | 第26-30页 |
·偶极子物理模型 | 第30-32页 |
·散体的力学特性 | 第32-35页 |
·库仑(Coulomb)公式 | 第32-33页 |
·莫尔·库仑强度理论 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第三章 磁控散体抛光头柔度实时可调机理的研究 | 第36-46页 |
·磁场对铁磁性散体的作用机理 | 第36-37页 |
·理想铁球散体在磁场作用下的力学模型 | 第37-41页 |
·理想散体磁致法向应力σ_(HL) | 第38-39页 |
·理想散体磁致内聚力C_(HL) | 第39页 |
·理想散体磁致内摩擦角φ_(HL) | 第39-40页 |
·理想散体磁致抗剪应力τ_(HL)模型 | 第40页 |
·理想散体法向应力σ_(0L) | 第40-41页 |
·理想散体非磁致抗剪应力τ_(0L)模型 | 第41页 |
·理想铁磁散体的抗剪应力模型 | 第41页 |
·由试验得到抗剪力模型 | 第41-45页 |
·试验装置的设计 | 第41-43页 |
·试验方法 | 第43页 |
·试验结果与分析 | 第43-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第四章 基于机器人的柔性抛光试验系统的建立与抛光试验 | 第46-57页 |
·磁控柔性抛光的作用原理 | 第46-47页 |
·基于机器人的柔性抛光试验系统的建立 | 第47-52页 |
·机器人系统的构成 | 第47-48页 |
·基于机器人的模具自由曲面抛光系统 | 第48-50页 |
·磁控柔性抛光工具 | 第50-52页 |
·抛光试验及试验结果分析 | 第52-55页 |
·抛光时间对去除量的影响 | 第52页 |
·磨头转速对去除量的影响 | 第52-53页 |
·磁场强度对去除量的影响 | 第53-54页 |
·抛光头下压量对去除量的影响 | 第54-55页 |
·磨料对材料去除量的影响 | 第55页 |
·磁控散体抛光粗糙度的试验研究 | 第55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
第五章 多自由度数控柔性抛光机床的设计 | 第57-78页 |
·数控机床概述 | 第57-59页 |
·数控机床的组成 | 第57-58页 |
·数控机床的特点 | 第58页 |
·数控机床的设计准则 | 第58-59页 |
·数控抛光机床的结构设计 | 第59-68页 |
·功能分析 | 第59-60页 |
·总体设计方案 | 第60页 |
·传动系统设计 | 第60-68页 |
·数控抛光机床数控系统的设计 | 第68-75页 |
·控制方案的选择 | 第68-70页 |
·数控系统的硬件及工作原理 | 第70-75页 |
·数控系统的工艺流程 | 第75-77页 |
·本章小结 | 第77-78页 |
第六章 结论 | 第78-80页 |
·全文总结 | 第78-79页 |
·未来展望 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第86页 |