Ni合金一维材料的制备及其表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·一维材料概述 | 第10-11页 |
| ·晶须 | 第10页 |
| ·纳米材料 | 第10-11页 |
| ·一维材料的研究进展 | 第11-19页 |
| ·晶须 | 第11-14页 |
| ·晶须的制备方法 | 第11-12页 |
| ·晶须生长机理 | 第12-14页 |
| ·一维纳米材料 | 第14-19页 |
| ·一维纳米材料的制备方法 | 第15-17页 |
| ·一维纳米材料的性质 | 第17-19页 |
| ·本课题的研究思路和研究内容 | 第19-21页 |
| ·背景和意义 | 第19页 |
| ·研究思路 | 第19-20页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-26页 |
| 第二章、电化学法制备ZN-NI合金晶须及其表征 | 第26-38页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第27-28页 |
| ·实验试剂 | 第27页 |
| ·实验仪器 | 第27-28页 |
| ·实验方法 | 第28-29页 |
| ·铜板预处理 | 第28页 |
| ·电沉积 | 第28-29页 |
| ·表征仪器 | 第29页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第29-36页 |
| ·XRD分析 | 第29-31页 |
| ·SEM分析 | 第31-32页 |
| ·EDS分析 | 第32页 |
| ·循环伏安(CV)分析 | 第32-33页 |
| ·pH值的影响 | 第33-34页 |
| ·电流密度的影响 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 NI合金一维纳米线的制备和表征 | 第38-63页 |
| ·多孔氧化铝模板的制备和表征 | 第38-54页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·阳极氧化法制备氧化铝膜的机理 | 第39-41页 |
| ·多孔氧化铝膜的结构模型 | 第39-40页 |
| ·多孔氧化铝膜的生长机理 | 第40-41页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第41-43页 |
| ·实验试剂 | 第41-42页 |
| ·实验仪器 | 第42-43页 |
| ·实验方法 | 第43-47页 |
| ·前处理 | 第43-44页 |
| ·二次阳极氧化制备氧化铝膜 | 第44-47页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第47-53页 |
| ·XRD分析 | 第47页 |
| ·SEM分析 | 第47-49页 |
| ·EDS分析 | 第49页 |
| ·影响氧化铝膜的因素 | 第49-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| ·一维Ni合金纳米线的制备及其表征 | 第54-62页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·化学镀的原理 | 第54-57页 |
| ·敏化、活化 | 第56-57页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第57-58页 |
| ·实验试剂 | 第57页 |
| ·实验仪器 | 第57-58页 |
| ·实验方法 | 第58-59页 |
| ·氧化铝膜基体的前处理 | 第58页 |
| ·化学镀 | 第58-59页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第59-61页 |
| ·XRD分析 | 第59页 |
| ·SEM分析 | 第59-61页 |
| ·EDS分析 | 第61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第四章 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63页 |
| ·展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第66页 |
