X射线显微成像纳米光学元件制作与应用研究
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-10页 |
目录 | 第10-13页 |
第1章 绪论 | 第13-29页 |
·X射线显微成像技术和波带片 | 第13-14页 |
·X射线波带片的发展 | 第14-17页 |
·软X射线波带片 | 第14-16页 |
·硬X射线波带片 | 第16-17页 |
·波带片和光栅的制作技术 | 第17-24页 |
·全息技术 | 第18-20页 |
·电子束光刻技术 | 第20-21页 |
·溅射切片法 | 第21-22页 |
·纳米压印 | 第22-24页 |
·电子束光刻和X射线光刻的集成技术 | 第24-27页 |
·论文的主要工作 | 第27-28页 |
·内容安排 | 第28-29页 |
第2章 X射线显微成像技术 | 第29-44页 |
·X射线显微成像技术 | 第29-31页 |
·X射线显微成像方法 | 第31-34页 |
·TXM | 第31-32页 |
·STXM | 第32-33页 |
·其他X射线成像技术 | 第33-34页 |
·国家同步辐射实验室X射显微成像光束线与实验站 | 第34-43页 |
·X射线显微成像光束线的设计 | 第34-40页 |
·X射线显微成像实验站的设计 | 第40-42页 |
·空间分辨率测试 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第3章 X射线成像波带片的理论和设计 | 第44-59页 |
·波带片设计 | 第44-48页 |
·多级焦点 | 第48-49页 |
·单色性 | 第49页 |
·一级衍射效率 | 第49-52页 |
·空间分辨率 | 第52-57页 |
·焦深 | 第57-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第4章 电子束光刻技术制作波带片和光栅掩模 | 第59-91页 |
·X射线波带片和光栅的制作方法 | 第59-61页 |
·电子束光刻技术 | 第61-64页 |
·电子束光刻工艺研究 | 第64-81页 |
·电子束光刻中的图形拼接 | 第64-66页 |
·电子束光刻中的邻近效应 | 第66-68页 |
·电子束抗蚀剂 | 第68-71页 |
·电子束光刻中的邻近效应校正 | 第71-81页 |
·波带片和光栅掩模的制作 | 第81-90页 |
·电镀金的工艺技术 | 第81-83页 |
·100nm波带片掩模制作 | 第83-85页 |
·80nm波带片掩模制作 | 第85-86页 |
·X射线透射光栅掩模制作 | 第86-89页 |
·手性器件 | 第89页 |
·振幅调制波带片 | 第89-90页 |
·本章小结 | 第90-91页 |
第5章 X射线光刻复制大高宽比波带片和光栅 | 第91-119页 |
·X射线光刻技术 | 第91-95页 |
·X射线曝光系统 | 第92-94页 |
·同步辐射X射线光刻技术研究现状 | 第94-95页 |
·NSRL光刻光束线与实验站 | 第95-97页 |
·X射线光刻工艺研究 | 第97-108页 |
·X射线光刻掩模 | 第97-98页 |
·X射线抗蚀剂 | 第98页 |
·接近式曝光与支撑结构 | 第98-105页 |
·毛细管效应 | 第105-107页 |
·全水环境电镀 | 第107-108页 |
·100nm波带片的复制 | 第108-111页 |
·X射线显微成像技术检测波带片质量 | 第111-113页 |
·透射光栅的复制 | 第113-116页 |
·光子晶体 | 第116-118页 |
·本章小结 | 第118-119页 |
第6章 波带片一级衍射效率测试 | 第119-126页 |
·波带片一级衍射效率模型与理论计算 | 第119-121页 |
·测试原理 | 第121-122页 |
·测试光路图与仪器 | 第122-124页 |
·测量结果 | 第124-125页 |
·本章小结 | 第125-126页 |
总结与展望 | 第126-129页 |
总结 | 第126-127页 |
展望 | 第127-129页 |
参考文献 | 第129-136页 |
附录 实验中使用的仪器及药品规格型号 | 第136-137页 |
仪器 | 第136页 |
药品 | 第136-137页 |
致谢 | 第137-138页 |
攻读博士期间发表的学术论文及其他研究成果 | 第138页 |
学术论文 | 第138页 |
学术会议 | 第138页 |