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X射线显微成像纳米光学元件制作与应用研究

摘要第1-7页
Abstract第7-10页
目录第10-13页
第1章 绪论第13-29页
   ·X射线显微成像技术和波带片第13-14页
   ·X射线波带片的发展第14-17页
     ·软X射线波带片第14-16页
     ·硬X射线波带片第16-17页
   ·波带片和光栅的制作技术第17-24页
     ·全息技术第18-20页
     ·电子束光刻技术第20-21页
     ·溅射切片法第21-22页
     ·纳米压印第22-24页
   ·电子束光刻和X射线光刻的集成技术第24-27页
   ·论文的主要工作第27-28页
   ·内容安排第28-29页
第2章 X射线显微成像技术第29-44页
   ·X射线显微成像技术第29-31页
   ·X射线显微成像方法第31-34页
     ·TXM第31-32页
     ·STXM第32-33页
     ·其他X射线成像技术第33-34页
   ·国家同步辐射实验室X射显微成像光束线与实验站第34-43页
     ·X射线显微成像光束线的设计第34-40页
     ·X射线显微成像实验站的设计第40-42页
     ·空间分辨率测试第42-43页
   ·本章小结第43-44页
第3章 X射线成像波带片的理论和设计第44-59页
   ·波带片设计第44-48页
   ·多级焦点第48-49页
   ·单色性第49页
   ·一级衍射效率第49-52页
   ·空间分辨率第52-57页
   ·焦深第57-58页
   ·本章小结第58-59页
第4章 电子束光刻技术制作波带片和光栅掩模第59-91页
   ·X射线波带片和光栅的制作方法第59-61页
   ·电子束光刻技术第61-64页
   ·电子束光刻工艺研究第64-81页
     ·电子束光刻中的图形拼接第64-66页
     ·电子束光刻中的邻近效应第66-68页
     ·电子束抗蚀剂第68-71页
     ·电子束光刻中的邻近效应校正第71-81页
   ·波带片和光栅掩模的制作第81-90页
     ·电镀金的工艺技术第81-83页
     ·100nm波带片掩模制作第83-85页
     ·80nm波带片掩模制作第85-86页
     ·X射线透射光栅掩模制作第86-89页
     ·手性器件第89页
     ·振幅调制波带片第89-90页
   ·本章小结第90-91页
第5章 X射线光刻复制大高宽比波带片和光栅第91-119页
   ·X射线光刻技术第91-95页
     ·X射线曝光系统第92-94页
     ·同步辐射X射线光刻技术研究现状第94-95页
   ·NSRL光刻光束线与实验站第95-97页
   ·X射线光刻工艺研究第97-108页
     ·X射线光刻掩模第97-98页
     ·X射线抗蚀剂第98页
     ·接近式曝光与支撑结构第98-105页
     ·毛细管效应第105-107页
     ·全水环境电镀第107-108页
   ·100nm波带片的复制第108-111页
   ·X射线显微成像技术检测波带片质量第111-113页
   ·透射光栅的复制第113-116页
   ·光子晶体第116-118页
   ·本章小结第118-119页
第6章 波带片一级衍射效率测试第119-126页
   ·波带片一级衍射效率模型与理论计算第119-121页
   ·测试原理第121-122页
   ·测试光路图与仪器第122-124页
   ·测量结果第124-125页
   ·本章小结第125-126页
总结与展望第126-129页
 总结第126-127页
 展望第127-129页
参考文献第129-136页
附录 实验中使用的仪器及药品规格型号第136-137页
 仪器第136页
 药品第136-137页
致谢第137-138页
攻读博士期间发表的学术论文及其他研究成果第138页
 学术论文第138页
 学术会议第138页

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