| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| ·概述 | 第11-12页 |
| ·氧化锌的晶体结构和薄膜的优点 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜的光学性质以及作为光电子材料的研究 | 第13-16页 |
| ·ZnO薄膜的光学性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO薄膜作为光电子材料的研究 | 第14-16页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第16-19页 |
| ·紫外光探测器 | 第16页 |
| ·太阳能电池 | 第16-17页 |
| ·发光器件 | 第17-19页 |
| ·ZnO薄膜的掺杂 | 第19-22页 |
| ·掺杂Mg的ZnO(带隙可调的掺杂) | 第19-20页 |
| ·Ⅰ族元素的掺杂 | 第20-22页 |
| ·本论文选题的目的和意义 | 第22-25页 |
| 第二章 薄膜的制备方法和表征手段 | 第25-35页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第25-29页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol-gel) | 第25-27页 |
| ·溶胶凝胶法的优缺点 | 第27-28页 |
| ·热处理和高温退火 | 第28-29页 |
| ·薄膜表征方法[55] | 第29-33页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜分析(SEM) | 第30页 |
| ·X射线能谱分析(EDS) | 第30-31页 |
| ·光致发光光谱 | 第31-32页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第32-33页 |
| ·本论文所用试剂及仪器介绍 | 第33-35页 |
| ·化学试剂 | 第33页 |
| ·仪器设备 | 第33-35页 |
| 第三章 Li与Mg共掺杂的ZnO薄膜的制备与特性 | 第35-55页 |
| ·Li与Mg共掺杂的ZnO溶胶与薄膜的制备 | 第35-38页 |
| ·掺杂ZnO溶胶的制备 | 第35-36页 |
| ·基片的清洗 | 第36页 |
| ·涂膜和热处理 | 第36-38页 |
| ·Li与Mg共掺杂的ZnO薄膜结构性能表征与结果分析 | 第38-46页 |
| ·不同掺杂浓度对薄膜结构的影响 | 第38-41页 |
| ·不同旋涂层数对薄膜结构的影响 | 第41-44页 |
| ·不同退火温度对薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
| ·薄膜的X射线能谱分析(EDS) | 第46-47页 |
| ·薄膜的发光性质的分析 | 第47-52页 |
| ·薄膜的光致发光谱(PL) | 第47-50页 |
| ·薄膜的拉曼光谱分析 | 第50-52页 |
| ·不同镀膜工艺对薄膜性质的影响 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第四章 Na与Mg共掺杂的ZnO薄膜的制备与性能研究 | 第55-69页 |
| ·Na与Mg共掺杂的ZnO薄膜的制备 | 第55-56页 |
| ·Na与Mg共掺杂的ZnO薄膜结构表征与结果分析(X射线衍射图与SEM) | 第56-62页 |
| ·掺杂浓度对薄膜结构和表面形貌的影响 | 第56-59页 |
| ·旋涂层数对薄膜结构和表面形貌的影响 | 第59-60页 |
| ·退火温度对薄膜结构和表面形貌的影响 | 第60-62页 |
| ·薄膜的X射线能谱分析(EDS) | 第62-63页 |
| ·Na与Mg共掺杂的ZnO薄膜的光学性质 | 第63-66页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第63-64页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第64-66页 |
| ·不同镀膜方法对ZnO薄膜性质的影响 | 第66-68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 第五章 Li-Mg共掺杂与Na-Mg共掺杂ZnO薄膜性能比较 | 第69-75页 |
| ·不同元素掺杂ZnO薄膜的结构(XRD&SEM) | 第69-71页 |
| ·掺杂浓度 | 第69-70页 |
| ·退火温度 | 第70页 |
| ·旋涂层数 | 第70-71页 |
| ·(Li,Mg):ZnO和(Na,Mg):ZnO薄膜表面形态 | 第71-72页 |
| ·(Li,Mg):ZnO和(Na,Mg):ZnO薄膜的光学性质相比较 | 第72-74页 |
| ·小结 | 第74-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
