直流电镀NiFe薄膜和Cu/NiFe丝的结构与性能
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·课题来源 | 第10-11页 |
| ·电磁屏蔽的基本原理 | 第11-17页 |
| ·静电屏蔽 | 第12-13页 |
| ·静磁屏蔽 | 第13-15页 |
| ·电磁屏蔽 | 第15-17页 |
| ·电磁屏蔽材料的研究进展 | 第17-19页 |
| ·电磁屏蔽金属材料 | 第17-18页 |
| ·电磁屏蔽金属非晶材料 | 第18-19页 |
| ·GMI效应的研究现状 | 第19-21页 |
| ·研究进展 | 第19-20页 |
| ·三明治结构GMI薄膜的制备方法 | 第20-21页 |
| ·电沉积合金镀层 | 第21-23页 |
| ·电镀概述 | 第21-22页 |
| ·金属共沉积 | 第22-23页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 试验材料及试验方法 | 第25-30页 |
| ·薄膜制备设备及试验材料 | 第25页 |
| ·试验材料 | 第25页 |
| ·试验的化学试剂 | 第25页 |
| ·试样及镀层制备 | 第25-26页 |
| ·试样制备 | 第25页 |
| ·预处理工艺流程 | 第25-26页 |
| ·电镀的工艺参数 | 第26-27页 |
| ·研究方法 | 第27-30页 |
| ·掠入射X 射线衍射分析 | 第27页 |
| ·扫描电子显微镜观察 | 第27页 |
| ·磁性能测试 | 第27-28页 |
| ·巨磁阻抗性能测量 | 第28-30页 |
| 第3章 NiFe镀层的制备、相结构及表面形貌 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·预处理工艺 | 第30-31页 |
| ·弱碱除油 | 第30-31页 |
| ·酸洗 | 第31页 |
| ·电镀Ni-Fe合金镀层 | 第31-34页 |
| ·电镀Ni-Fe合金镀层工艺 | 第31-33页 |
| ·镀层成分控制 | 第33-34页 |
| ·镀层制备 | 第34页 |
| ·NiFe镀层的物相分析 | 第34-36页 |
| ·NiFe镀层的晶粒测量 | 第36-37页 |
| ·SEM观察NiFe镀层界面结合和厚度 | 第37-41页 |
| ·单层NiFe薄膜断面的表面形貌观察 | 第37-39页 |
| ·三明治结构Cu/NiFe丝表面形貌观察 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 NiFe薄膜织构与磁性能 | 第42-58页 |
| ·前言 | 第42页 |
| ·纤维型织构 | 第42-43页 |
| ·薄膜织构的掠入射XRD分析方法 | 第43-46页 |
| ·NiFe薄膜织构分析 | 第46-51页 |
| ·薄膜残余应力 | 第51-53页 |
| ·薄膜残余应力的掠入射测量方法 | 第51-52页 |
| ·薄膜残余应力的测量 | 第52-53页 |
| ·NiFe镀层的磁性能 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 三明治结构Cu/NiFe丝的巨磁阻抗性能 | 第58-65页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·巨磁阻抗性能测量 | 第58-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
