金属钴及坡莫合金纳米环的微磁学特性研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·纳米材料 | 第11页 |
| ·磁性存储材料 | 第11-13页 |
| ·MRAM | 第13-15页 |
| ·微磁学 | 第15-17页 |
| ·磁性纳米环 | 第17-21页 |
| ·纳米颗粒的高频特性 | 第21-23页 |
| ·本文主要研究内容 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-28页 |
| 第二章 微磁学的基本原理 | 第28-44页 |
| ·微磁学的基本理论 | 第28-29页 |
| ·磁体中的能量表示 | 第29-35页 |
| ·塞曼能 | 第29页 |
| ·退磁能 | 第29-32页 |
| ·交换相互作用能 | 第32-34页 |
| ·各向异性能 | 第34-35页 |
| ·有效场 | 第35-37页 |
| ·静态方法和动态方法 | 第37-39页 |
| ·静态方法 | 第37页 |
| ·动态方法 | 第37-39页 |
| ·程序简介及流程 | 第39-43页 |
| ·OOMMF的微磁学模型 | 第40页 |
| ·程序中退磁能的处理 | 第40-42页 |
| ·程序流程 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第三章 环状钴纳米颗粒的静态磁性 | 第44-64页 |
| ·沿环面内x方向加场时环状磁体的反转机制 | 第45-53页 |
| ·厚度为10nm的环状磁体的反转过程 | 第45-48页 |
| ·厚度为20nm的环状磁体的反转过程 | 第48-50页 |
| ·厚度为200nm的环状磁体的反转过程 | 第50-53页 |
| ·沿环面法向y方向加场时磁体的反转机制 | 第53-61页 |
| ·厚度为20nm的环状磁体的反转机制 | 第53-56页 |
| ·厚度为200nm的环状磁体的反转机制 | 第56-59页 |
| ·厚度为400nm的环的反转机制 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第四章 环状坡莫合金体系的高频特性 | 第64-88页 |
| ·高频磁特性的计算原理 | 第65-68页 |
| ·环状坡莫体系的能量及退磁因子 | 第68-71页 |
| ·平衡磁化结构为水平态的坡莫环的高频磁谱 | 第71-77页 |
| ·平衡磁化结构为涡旋态的坡莫环的高频磁谱 | 第77-81页 |
| ·平衡磁化结构为轴向态的坡莫环的高频磁谱 | 第81-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 第五章 结论 | 第88-90页 |
| ·结论 | 第88-89页 |
| ·展望 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
