摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 陶瓷材料概述 | 第12-15页 |
1.2.1 氧化物陶瓷 | 第12-13页 |
1.2.2 非氧化物高温陶瓷 | 第13-15页 |
1.3 金刚石的性能和应用 | 第15-17页 |
1.3.1 金刚石简介 | 第15页 |
1.3.2 金刚石的力学性能 | 第15-16页 |
1.3.3 金刚石的热学性能 | 第16页 |
1.3.4 金刚石的其他优异性能 | 第16-17页 |
1.4 化学气相沉积生长金刚石薄膜的机制与制备方法 | 第17-22页 |
1.4.1 化学气相沉积生长金刚石的机制 | 第17-18页 |
1.4.2 化学气相沉积生长金刚石常用方法 | 第18-22页 |
1.5 金刚石薄膜的制备与摩擦性能的研究进展 | 第22-23页 |
1.6 论文的研究意义与主要研究内容 | 第23-25页 |
1.6.1 研究意义 | 第23页 |
1.6.2 研究的主要内容 | 第23-25页 |
第二章 薄膜的制备与表征参数设计 | 第25-33页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 试验设计背景与要求 | 第25-26页 |
2.3 试验材料 | 第26页 |
2.4 仪器设备及测量参数 | 第26-31页 |
2.4.1 金刚石薄膜沉积使用设备 | 第26-27页 |
2.4.2 金刚石薄膜表征使用设备 | 第27-30页 |
2.4.3 摩擦磨损实验使用设备 | 第30-31页 |
2.5 金刚石薄膜制备的实验设计 | 第31-32页 |
2.6 本章小节 | 第32-33页 |
第三章 氮化硅和碳化硅表面CVD金刚石薄膜的结构表征 | 第33-49页 |
3.1 引言 | 第33页 |
3.2 实验参数对金刚石薄膜形貌与结构的影响 | 第33-48页 |
3.2.1 实验参数对金刚石薄膜形貌的影响 | 第33-38页 |
3.2.2 生长参数对两种陶瓷表面金刚石薄膜化学成分的影响 | 第38-42页 |
3.2.3 生长参数对氮化硅表面金刚石薄膜表面粗糙度的影响 | 第42-44页 |
3.2.4 生长参数对两种材料表面金刚石薄膜润湿性能的影响 | 第44-48页 |
3.3 本章小结 | 第48-49页 |
第四章 金刚石薄膜的摩擦磨损性能研究 | 第49-67页 |
4.1 引言 | 第49页 |
4.2 CVD金刚石薄膜的摩擦试验方案 | 第49-50页 |
4.3 CVD金刚石薄膜的摩擦试验结果及分析 | 第50-64页 |
4.3.1 薄膜的摩擦系数分析 | 第50-54页 |
4.3.2 薄膜磨损痕迹扫描电镜结果分析 | 第54-59页 |
4.3.3 薄膜的磨损率计算与分析 | 第59-64页 |
4.4 本章小结 | 第64-67页 |
第五章 结论 | 第67-71页 |
5.1 主要研究内容与结论 | 第67-69页 |
5.2 本论文的创新点 | 第69页 |
5.3 展望 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
作者简介 | 第75页 |
作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第75-77页 |
致谢 | 第77页 |