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氮化硅表面耐磨涂层的制备与摩擦磨损性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第11-25页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 陶瓷材料概述第12-15页
        1.2.1 氧化物陶瓷第12-13页
        1.2.2 非氧化物高温陶瓷第13-15页
    1.3 金刚石的性能和应用第15-17页
        1.3.1 金刚石简介第15页
        1.3.2 金刚石的力学性能第15-16页
        1.3.3 金刚石的热学性能第16页
        1.3.4 金刚石的其他优异性能第16-17页
    1.4 化学气相沉积生长金刚石薄膜的机制与制备方法第17-22页
        1.4.1 化学气相沉积生长金刚石的机制第17-18页
        1.4.2 化学气相沉积生长金刚石常用方法第18-22页
    1.5 金刚石薄膜的制备与摩擦性能的研究进展第22-23页
    1.6 论文的研究意义与主要研究内容第23-25页
        1.6.1 研究意义第23页
        1.6.2 研究的主要内容第23-25页
第二章 薄膜的制备与表征参数设计第25-33页
    2.1 引言第25页
    2.2 试验设计背景与要求第25-26页
    2.3 试验材料第26页
    2.4 仪器设备及测量参数第26-31页
        2.4.1 金刚石薄膜沉积使用设备第26-27页
        2.4.2 金刚石薄膜表征使用设备第27-30页
        2.4.3 摩擦磨损实验使用设备第30-31页
    2.5 金刚石薄膜制备的实验设计第31-32页
    2.6 本章小节第32-33页
第三章 氮化硅和碳化硅表面CVD金刚石薄膜的结构表征第33-49页
    3.1 引言第33页
    3.2 实验参数对金刚石薄膜形貌与结构的影响第33-48页
        3.2.1 实验参数对金刚石薄膜形貌的影响第33-38页
        3.2.2 生长参数对两种陶瓷表面金刚石薄膜化学成分的影响第38-42页
        3.2.3 生长参数对氮化硅表面金刚石薄膜表面粗糙度的影响第42-44页
        3.2.4 生长参数对两种材料表面金刚石薄膜润湿性能的影响第44-48页
    3.3 本章小结第48-49页
第四章 金刚石薄膜的摩擦磨损性能研究第49-67页
    4.1 引言第49页
    4.2 CVD金刚石薄膜的摩擦试验方案第49-50页
    4.3 CVD金刚石薄膜的摩擦试验结果及分析第50-64页
        4.3.1 薄膜的摩擦系数分析第50-54页
        4.3.2 薄膜磨损痕迹扫描电镜结果分析第54-59页
        4.3.3 薄膜的磨损率计算与分析第59-64页
    4.4 本章小结第64-67页
第五章 结论第67-71页
    5.1 主要研究内容与结论第67-69页
    5.2 本论文的创新点第69页
    5.3 展望第69-71页
参考文献第71-75页
作者简介第75页
作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文第75-77页
致谢第77页

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