| 内容提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第8-11页 |
| ·ZnO 的应用 | 第11页 |
| ·ZnO 纳米材料的制备和应用 | 第11-14页 |
| ·ZnO 纳米材料的制备方法—水热法 | 第14-17页 |
| ·本论文的选题背景和研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 在自支撑金刚石膜生长面上制备高质量 ZnO 薄膜 | 第19-35页 |
| ·引言 | 第19-21页 |
| ·射频磁控溅射设备 | 第21-23页 |
| ·射频磁控溅射原理和特点 | 第21-22页 |
| ·实验设备 | 第22-23页 |
| ·实验过程 | 第23-26页 |
| ·CVD 金刚石衬底的制备及处理 | 第23-25页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第25页 |
| ·样品表征 | 第25-26页 |
| ·实验结果与分析 | 第26-33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 金刚石衬底上制备ZnO 纳米棒及其光电性质的研究 | 第35-58页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·水热法简介 | 第35-36页 |
| ·实验过程 | 第36-38页 |
| ·硼掺杂金刚石薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·ZnO 籽晶层的制备 | 第37页 |
| ·ZnO 纳米棒阵列的制备 | 第37-38页 |
| ·实验结果与分析 | 第38-49页 |
| ·硼掺杂金刚石膜 | 第38-39页 |
| ·ZnO 纳米棒阵列的结构、形貌与成分分析 | 第39-41页 |
| ·不同衬底对 ZnO 纳米棒阵列的影响 | 第41-43页 |
| ·反应时间对 ZnO 纳米棒阵列的影响 | 第43-45页 |
| ·反应物浓度对 ZnO 纳米棒形貌的影响 | 第45-47页 |
| ·反应后溶液的利用 | 第47-49页 |
| ·金刚石衬底上 ZnO 纳米棒阵列生长过程和生长机理 | 第49-50页 |
| ·金刚石衬底上 ZnO 纳米棒阵列光学性质研究 | 第50-53页 |
| ·n-型 ZnO 纳米棒/p-型金刚石异质结结构的制备及性能研究 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 Si 衬底上制备 ZnO 纳米棒/片复合结构 | 第58-69页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验过程 | 第58-60页 |
| ·高纯 Al 膜的溅射 | 第58-59页 |
| ·在 Si 衬底上制备 Al 的纳米凹坑阵列 | 第59页 |
| ·ZnO 纳米棒/片复合结构的制备 | 第59-60页 |
| ·实验结果与分析 | 第60-63页 |
| ·ZnO 纳米棒/片的形貌、结构分析 | 第60-62页 |
| ·ZnO 纳米片的形貌、结构分析 | 第62-63页 |
| ·ZnO 纳米棒/片复合结构可能的生长过程和机理 | 第63-65页 |
| ·ZnO 纳米棒/片的光致发光特性的研究 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 结论与展望 | 第69-72页 |
| 参考文献 | 第72-82页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84-86页 |
| 中文摘要 | 第86-88页 |
| Abstract | 第88-89页 |
