| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.2 研究的目的和意义 | 第8-12页 |
| 1.3 光学元件的超精密加工技术 | 第12-16页 |
| 1.3.1 研磨与抛光 | 第12-13页 |
| 1.3.2 光学元件超精密加工方法简介 | 第13-15页 |
| 1.3.3 光学元件亚表层损伤检测方法简介 | 第15-16页 |
| 1.4 国内外在该方向的研究现状及分析 | 第16-18页 |
| 1.4.1 国外研究现状 | 第17页 |
| 1.4.2 国内研究现状 | 第17-18页 |
| 1.5 理想点法基本原理 | 第18-19页 |
| 1.6 主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 亚表层损伤形成机理研究 | 第20-33页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 熔石英光学材料特性分析 | 第20-21页 |
| 2.3 熔石英玻璃亚表层损伤形成机理分析 | 第21-25页 |
| 2.3.1 亚表层损伤的结构 | 第21-22页 |
| 2.3.2 亚表层损伤结构受力分析 | 第22-23页 |
| 2.3.3 微裂纹分布原因分析 | 第23-25页 |
| 2.4 熔石英玻璃的纳米压痕实验 | 第25-32页 |
| 2.4.1 产生裂纹的临界压力载荷 | 第28页 |
| 2.4.2 临界压力载荷的计算 | 第28-29页 |
| 2.4.3 纳米压痕实验验证 | 第29-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 使用荧光量子点表征亚表层损伤程度 | 第33-48页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 荧光量子点的主要性质 | 第33-34页 |
| 3.3 量子点与试件表面的相互作用 | 第34-36页 |
| 3.4 角度抛光法检测亚表层损伤深度 | 第36-39页 |
| 3.4.1 角度抛光法实验 | 第36-38页 |
| 3.4.2 光学观测亚表层损伤微观形貌 | 第38-39页 |
| 3.5 熔石英光学玻璃亚表层损伤荧光检测实验 | 第39-47页 |
| 3.5.1 实验所用仪器和试件介绍 | 第39-40页 |
| 3.5.2 共聚焦激光扫描显微镜成像原理 | 第40-42页 |
| 3.5.3 亚表层损伤程度检测实验 | 第42-47页 |
| 3.6 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 熔石英光学玻璃抛光工艺参数研究 | 第48-61页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 熔石英玻璃抛光工艺参数实验研究 | 第48-54页 |
| 4.2.1 所用的实验工具 | 第48-49页 |
| 4.2.2 实验设计方案 | 第49-50页 |
| 4.2.3 建立回归方程并检验方程系数 | 第50-54页 |
| 4.3 抛光工艺参数的优化 | 第54-57页 |
| 4.3.1 熔石英玻璃抛光参数优化分析 | 第54-56页 |
| 4.3.2 参数的优化验证 | 第56-57页 |
| 4.4 抛光工艺参数对表面粗糙度和亚表层损伤的影响 | 第57-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67页 |