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Al-Si合金微弧氧化陶瓷层生长特性及膜层性能研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
1 绪论第9-19页
    1.1 铝硅合金第9-10页
    1.2 铝硅合金的腐蚀行为第10-11页
    1.3 铝硅合金的表面处理研究第11-13页
        1.3.1 化学镀第12页
        1.3.2 电镀第12页
        1.3.3 阳极氧化技术第12页
        1.3.4 微弧氧化技术第12-13页
    1.4 铝硅合金微弧氧化国内外研究进展第13-15页
        1.4.1 电参数的影响第13页
        1.4.2 电解液体系的影响第13-14页
        1.4.3 合金基体的影响第14-15页
    1.5 本课题研究目的及意义第15-16页
    1.6 本课题研究内容及技术路线第16-19页
2 实验材料及方法第19-25页
    2.1 实验材料第19-20页
        2.1.1 基体材料第19页
        2.1.2 试样制备第19页
        2.1.3 实验试剂第19-20页
        2.1.4 实验设备第20页
    2.2 微弧氧化设备第20-21页
    2.3 预处理工艺参数第21页
        2.3.1 酸蚀预处理第21页
        2.3.2 喷砂预处理第21页
    2.4 样品表征与分析第21-25页
        2.4.1 陶瓷层厚度分析第21-22页
        2.4.2 陶瓷层粗糙度测试第22页
        2.4.3 陶瓷层显微形貌及能谱分析第22页
        2.4.4 陶瓷层物相分析第22页
        2.4.5 陶瓷层耐蚀性分析第22-23页
        2.4.6 陶瓷层显微硬度测试第23页
        2.4.7 金相分析第23页
        2.4.8 陶瓷层结合力测试第23-25页
3 不同硅含量基材微弧氧化膜层生长特性第25-47页
    3.1 基体金相组织第25页
    3.2 恒流条件下硅含量对基材MAO生长特性的影响第25-32页
        3.2.1 硅含量对电压-时间(U-T)曲线的影响第25-26页
        3.2.2 硅含量对膜层表面微观形貌的影响第26-28页
        3.2.3 硅含量对膜层表面元素变化的影响第28-29页
        3.2.4 硅含量对膜层厚度及粗糙度的影响第29-30页
        3.2.5 硅含量对膜层XRD的影响第30-31页
        3.2.6 硅含量对膜层截面形貌的影响第31-32页
    3.3 硅含量对微弧氧化膜层性能的影响第32-36页
        3.3.1 膜层显微硬度分析第32-34页
        3.3.2 膜层耐腐蚀性能分析第34-36页
    3.4 变质处理对ZL101合金生长特性的影响第36-41页
        3.4.1 变质处理后ZL101的金相组织图第37页
        3.4.2 变质处理对时间-电压(U-T)曲线的影响第37-38页
        3.4.3 变质处理对膜层生长速率的影响第38-39页
        3.4.4 变质处理对膜层形貌及表面元素的影响第39-40页
        3.4.5 变质处理对膜层成分变化的影响第40-41页
    3.5 变质处理对膜层性能的影响第41-44页
        3.5.1 显微硬度分析第41-42页
        3.5.2 耐腐蚀性能分析第42-44页
    3.6 铝硅合金MAO陶瓷层生长模型第44-47页
4 预处理对ZL102合金膜层生长及性能影响第47-59页
    4.1 预处理后ZL102合金的表面形貌第47-48页
    4.2 预处理后ZL102合金电压-时间曲线第48-49页
    4.3 预处理对膜层厚度变化的影响第49-50页
    4.4 预处理对膜层表面形貌的影响第50-51页
    4.5 预处理对膜层XRD的影响第51-52页
    4.6 预处理对基体表面元素变化的影响第52-53页
    4.7 预处理对膜层截面形貌的影响第53-55页
    4.8 预处理对膜层性能的影响第55-59页
        4.8.1 显微硬度分析第55-56页
        4.8.2 结合力分析第56页
        4.8.3 耐腐蚀性能分析第56-59页
5 结论第59-61页
致谢第61-63页
参考文献第63-67页

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