| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| 第二章 薄膜的制备、表征及其性质测量系统简介 | 第10-27页 |
| ·样品制备系统原理 | 第10-16页 |
| ·样品表征系统原理 | 第16-19页 |
| ·X射线光电子能谱原理 | 第16-17页 |
| ·X射线衍射能谱原理 | 第17-19页 |
| ·样品光学特性测量与分析系统原理 | 第19-26页 |
| ·电子输运特性测量与分析系统原理 | 第26-27页 |
| 第三章 Si-ZrO_2信息功能薄膜的制备及光电性质 | 第27-50页 |
| ·制备楔形组分样品的辅助系统的研制 | 第27-33页 |
| ·自制龙门架的构想 | 第27页 |
| ·龙门架的结构设计与制作 | 第27-33页 |
| ·Si-ZrO_2复合薄膜的光学性质 | 第33-41页 |
| ·不同组分Si-ZrO_2薄膜的制备与表征 | 第33-36页 |
| ·椭偏光谱分析 | 第36-38页 |
| ·不同组分Si-ZrO_2薄膜与纯ZrO_2薄膜的光学常数谱 | 第38-39页 |
| ·退火处理对薄膜样品光学常数的影响 | 第39-41页 |
| ·Si-ZrO_2信息功能薄膜的制备及其性质 | 第41-50页 |
| ·组分渐变单片Si-ZrO_2薄膜的制备 | 第41-44页 |
| ·组分渐变Si-ZrO_2信息功能薄膜的制备 | 第44-45页 |
| ·组分渐变Si-ZrO_2信息功能薄膜参数测量 | 第45-46页 |
| ·组分渐变Si-ZrO_2信息功能薄膜参数分析 | 第46-50页 |
| 第四章 不同氧化程度对ZrO_x信息功能薄膜物性的影响 | 第50-58页 |
| ·不同氧化程度ZrO_x薄膜的制备与表征 | 第50-52页 |
| ·不同氧化程度ZrO_x薄膜的椭偏光谱分析 | 第52-55页 |
| ·椭偏分析模型 | 第52-53页 |
| ·椭偏拟合 | 第53-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-55页 |
| ·不同氧化程度ZrO_x的信息功能薄膜的电子输运特征 | 第55-58页 |
| ·不同氧化程度ZrO_x信息功能薄膜的制备 | 第55页 |
| ·不同氧化程度ZrO_x信息功能薄膜的参数测量与分析 | 第55-58页 |
| 第五章 工作总结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 硕士期间发表论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
