| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 砷化镓材料可调谐激光器简介 | 第13-14页 |
| 1.2 砷化镓材料可调谐激光器在人体血液检测上的应用 | 第14-16页 |
| 1.3 砷化镓材料可调谐激光器的实现 | 第16-20页 |
| 1.3.1 外腔激光器 | 第16-17页 |
| 1.3.2 垂直腔面发射激光器 | 第17-19页 |
| 1.3.3 光栅结构激光器 | 第19-20页 |
| 1.4 V型耦合腔激光器 | 第20-21页 |
| 1.5 本论文研究要点和创新点 | 第21-23页 |
| 1.5.1 本论文的章节安排 | 第21-22页 |
| 1.5.2 本论文主要创新点 | 第22-23页 |
| 第二章 砷化镓材料V型腔激光器的设计 | 第23-41页 |
| 2.1 V型腔激光器的结构 | 第23-29页 |
| 2.1.1 V型耦合腔 | 第23-25页 |
| 2.1.2 半波耦合器 | 第25-29页 |
| 2.2 V型腔激光器的阈值方程 | 第29-30页 |
| 2.3 V型腔激光器参数设计与优化 | 第30-41页 |
| 2.3.1 层状结构设计 | 第30-32页 |
| 2.3.2 波导设计 | 第32页 |
| 2.3.3 V型腔结构设计 | 第32-35页 |
| 2.3.4 半波耦合器结构设计 | 第35-41页 |
| 第三章 砷化镓材料V型腔激光器的制作工艺 | 第41-69页 |
| 3.1 工艺流程总览 | 第41-44页 |
| 3.2 晶片表面预处理 | 第44页 |
| 3.3 光刻工艺 | 第44-48页 |
| 3.3.1 正胶光刻 | 第45-47页 |
| 3.3.2 负胶光刻 | 第47-48页 |
| 3.4 刻蚀工艺 | 第48-63页 |
| 3.4.1 掩模的选择 | 第48-50页 |
| 3.4.2 干湿法刻蚀比较 | 第50-51页 |
| 3.4.3 干法刻蚀介绍 | 第51-52页 |
| 3.4.4 干法刻蚀气体的选择 | 第52-56页 |
| 3.4.5 干法刻蚀配方的优化 | 第56-60页 |
| 3.4.6 湿法刻蚀辅助刻蚀波导 | 第60-63页 |
| 3.5 平坦化 | 第63-64页 |
| 3.6 正面电极与背面电极 | 第64-67页 |
| 3.7 晶片背面减薄与抛光 | 第67-68页 |
| 3.8 V型腔激光器成品 | 第68-69页 |
| 第四章 砷化镓材料V型腔激光器性能测试 | 第69-97页 |
| 4.1 测试系统介绍 | 第69-71页 |
| 4.2 F-P激光器测试 | 第71-76页 |
| 4.2.1 激光器IV、IP性能测试 | 第71-73页 |
| 4.2.2 腔镜面损伤 | 第73-76页 |
| 4.3 V型腔激光器测试 | 第76-97页 |
| 4.3.1 V型腔激光器波长调谐机理 | 第76-78页 |
| 4.3.2 载流子注入效应测试 | 第78-85页 |
| 4.3.3 载流子注入寄生热效应测试 | 第85-92页 |
| 4.3.4 二维电流扫描结果 | 第92-97页 |
| 第五章 反射式无创人体血液检测系统 | 第97-123页 |
| 5.1 血氧饱和度与脉搏检测 | 第97-109页 |
| 5.1.1 血氧饱和度检测原理 | 第98-100页 |
| 5.1.2 血氧饱和度检测系统 | 第100-107页 |
| 5.1.3 激光器在检测系统中的应用 | 第107-109页 |
| 5.2 血流速度检测 | 第109-114页 |
| 5.2.1 多普勒血流速度检测原理 | 第109-110页 |
| 5.2.2 血流速度检测实验 | 第110-112页 |
| 5.2.3 血流速度检测结果 | 第112-113页 |
| 5.2.4 双参数血液检测系统 | 第113-114页 |
| 5.3 血糖浓度检测 | 第114-123页 |
| 5.3.1 人体皮肤组织结构与光学特性 | 第115-117页 |
| 5.3.2 调频连续波在血糖检测中的应用 | 第117-121页 |
| 5.3.3 血糖浓度检测实验研究 | 第121-123页 |
| 第六章 总结与展望 | 第123-125页 |
| 6.1 总结 | 第123-124页 |
| 6.2 进一步工作展望 | 第124-125页 |
| 作者简介 | 第125-126页 |
| 参考文献 | 第126-136页 |