| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-45页 |
| 1.1 全氟化合物（PFCs）的污染现状与毒性效应 | 第13-18页 |
| 1.1.1 PFCs 的污染现状 | 第13-15页 |
| 1.1.2 PFCs 主要类型及物化性质 | 第15-16页 |
| 1.1.3 PFCs 毒理效应 | 第16-18页 |
| 1.2 全氟化合物降解技术的研究现状与进展 | 第18-26页 |
| 1.2.1 生物降解 | 第18-19页 |
| 1.2.2 高级氧化 | 第19-20页 |
| 1.2.3 光化学降解 | 第20-21页 |
| 1.2.4 化学还原 | 第21-22页 |
| 1.2.5 超声波热解 | 第22-23页 |
| 1.2.6 电化学氧化 | 第23-24页 |
| 1.2.7 硫酸自由基氧化 | 第24-25页 |
| 1.2.8 耦合体系 | 第25-26页 |
| 1.3 全氟化合物降解技术研究存在的问题和发展方向 | 第26-27页 |
| 1.3.1 全氟化合物降解技术研究存在问题 | 第26页 |
| 1.3.2 全氟化合物降解技术研究的发展方向 | 第26-27页 |
| 1.4 （高频）超声波氧化技术的研究进展 | 第27-32页 |
| 1.4.1 超声波氧化机制 | 第27-29页 |
| 1.4.2 超声波氧化影响因素 | 第29-32页 |
| 1.4.3 超声波氧化技术存在的问题及发展方向 | 第32页 |
| 1.5 紫外光氧化技术的研究进展 | 第32-38页 |
| 1.5.1 紫外光氧化机制 | 第33-34页 |
| 1.5.2 紫外光氧化影响因素 | 第34-37页 |
| 1.5.3 紫外光氧化技术存在的问题及发展方向 | 第37-38页 |
| 1.6 光声耦合氧化技术的研究进展 | 第38-42页 |
| 1.6.1 光声耦合方式及作用机理 | 第38-40页 |
| 1.6.2 光声耦合氧化处理难降解有机物 | 第40-42页 |
| 1.7 研究目的与主要研究内容 | 第42-45页 |
| 1.7.1 研究目的 | 第42-43页 |
| 1.7.2 主要研究内容与构思 | 第43-44页 |
| 1.7.3 技术路线 | 第44-45页 |
| 第二章 VUV 对水中 PFOS 超声脱氟的影响效果研究 | 第45-59页 |
| 2.1 前言 | 第45-46页 |
| 2.2 材料与方法 | 第46-49页 |
| 2.2.1 试剂与材料 | 第46-47页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第47-48页 |
| 2.2.3 测定方法 | 第48-49页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第49-58页 |
| 2.3.1 光声耦合体系的构建 | 第49-52页 |
| 2.3.2 VUV-US 对 PFOS 耦合脱氟的效果 | 第52-58页 |
| 2.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第三章 VUV-US 体系对水中 PFOS 脱氟的条件优化与模型预测 | 第59-75页 |
| 3.1 前言 | 第59-60页 |
| 3.2 材料与方法 | 第60页 |
| 3.2.1 试剂与材料 | 第60页 |
| 3.2.3 实验与数据分析方法 | 第60页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第60-74页 |
| 3.3.1 响应面法实验设计 | 第60-61页 |
| 3.3.2 响应面模型的建立 | 第61-65页 |
| 3.3.3 因素作用分析 | 第65-67页 |
| 3.3.4 调控策略分析 | 第67-74页 |
| 3.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第四章 PFOS 在 VUV- US 的中间产物及光声协同机制 | 第75-89页 |
| 4.1 前言 | 第75页 |
| 4.2 材料与方法 | 第75-77页 |
| 4.2.1 试剂与材料 | 第75-76页 |
| 4.2.2 测定方法与数据处理 | 第76-77页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第77-87页 |
| 4.3.1 中间产物测定 | 第77-78页 |
| 4.3.2 全氟羧酸类中间产物的定量分析 | 第78-83页 |
| 4.3.3 氟元素物料衡算 | 第83-85页 |
| 4.3.4 VUV 对 PFOS 超声脱氟的协同机制 | 第85-87页 |
| 4.4 本章小结 | 第87-89页 |
| 第五章 PFOS 在 VUV-US 中脱氟行为的量子化学研究 | 第89-108页 |
| 5.1 前言 | 第89-90页 |
| 5.2 计算方法 | 第90页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第90-107页 |
| 5.3.1 PFOS 及 PFCAs 的分子构型分析 | 第90-96页 |
| 5.3.2 PFOS 及 PFCAs 的前线电子密度 | 第96-105页 |
| 5.3.3 PFOS 及 PFCAs 的前线轨道能量 | 第105-107页 |
| 5.4 本章小结 | 第107-108页 |
| 第六章 K_2S_2O_8对 PFOS 在 VUV-US 体系中脱氟影响研究 | 第108-120页 |
| 6.1 引言 | 第108-110页 |
| 6.2 材料与方法 | 第110页 |
| 6.2.1 试剂与材料 | 第110页 |
| 6.2.2 实验装置 | 第110页 |
| 6.2.3 测定方法与数据处理 | 第110页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第110-119页 |
| 6.3.1 K_2S_2O_8与硫酸自由基对 PFOS 的氧化研究 | 第110-112页 |
| 6.3.2 不同 K_2S_2O_8投加量对 VUV-US 体系脱氟的影响 | 第112-114页 |
| 6.3.3 不同反应温度对 VUV-US 体系脱氟的影响 | 第114-115页 |
| 6.3.4 不同 PFOS 初始浓度对 VUV-US 体系脱氟的影响 | 第115-116页 |
| 6.3.5 K_2S_2O_8对 PFOS 在 VUV-US 体系中脱氟的影响机制 | 第116-119页 |
| 6.4 本章小结 | 第119-120页 |
| 结论、创新点与展望 | 第120-123页 |
| 结论 | 第120-121页 |
| 创新点 | 第121页 |
| 展望 | 第121-123页 |
| 参考文献 | 第123-138页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第138-139页 |
| 致谢 | 第139-140页 |
| 附件 | 第140页 |
