磁控溅射制备多层钼掺杂TiO2薄膜的光电性能
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 TiO_2薄膜的基本特性 | 第8-9页 |
| 1.2 阳离子掺杂TiO_2薄膜 | 第9-12页 |
| 1.3 抑制载流子复合的途径 | 第12-13页 |
| 1.4 多层薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.5 本文主要内容与意义 | 第15-17页 |
| 1.5.1 主要内容 | 第15-16页 |
| 1.5.2 研究意义 | 第16-17页 |
| 第二章 实验部分 | 第17-21页 |
| 2.1 化学试剂和实验仪器 | 第17-18页 |
| 2.2 主要实验仪器 | 第18页 |
| 2.3 薄膜制备方法 | 第18-19页 |
| 2.4 表面形貌测试 | 第19页 |
| 2.5 晶格结构测试 | 第19页 |
| 2.6 XPS测试 | 第19-20页 |
| 2.7 UV-vis.吸收、透射光谱 | 第20页 |
| 2.8 膜厚测量 | 第20页 |
| 2.9 薄膜的光电特性 | 第20-21页 |
| 第三章 铝掺杂二氧化钛薄膜的光电特性 | 第21-30页 |
| 3.1 薄膜元素组成及其价态的XPS分析 | 第21-23页 |
| 3.2 薄膜晶格结构的XRD分析 | 第23-24页 |
| 3.3 表面形貌 | 第24-25页 |
| 3.4 紫外可见光吸收特性与薄膜禁带宽度 | 第25-27页 |
| 3.5 薄膜电极的光电性能 | 第27-29页 |
| 3.6 本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 多层Mo-TiO_2薄膜的光电特性 | 第30-39页 |
| 4.1 多层膜结构 | 第30页 |
| 4.2 射频共溅射条件下的最优化均匀Mo掺杂 | 第30-32页 |
| 4.3 不同浓度掺杂层的XRD分析 | 第32-33页 |
| 4.4 不同掺杂浓度层的AFM图像 | 第33-34页 |
| 4.5 不同多层结构的吸收谱 | 第34-35页 |
| 4.6 不同多层结构的光电特性 | 第35-38页 |
| 4.7 本章小结 | 第38-39页 |
| 第五章 多层结构对光电特性的影响机制 | 第39-46页 |
| 5.1 晶粒尺寸对晶界电场强度的影响 | 第39-40页 |
| 5.2 隧道效应对底层肖特基势垒的影响 | 第40-45页 |
| 5.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 第六章 总结与展望 | 第46-48页 |
| 6.1 本文总结 | 第46-47页 |
| 6.2 未来展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 附录 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
