| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第11-18页 |
| 1.2 国内外发展现状 | 第18-21页 |
| 1.3 本论文的结构安排 | 第21-23页 |
| 第2章 极紫外多层膜 | 第23-53页 |
| 2.1 极紫外波段材料光学特性 | 第23-24页 |
| 2.2 极紫外多层膜的设计 | 第24-32页 |
| 2.3 极紫外多层膜的制备 | 第32-40页 |
| 2.4 极紫外多层膜的检测 | 第40-52页 |
| 2.5 小结 | 第52-53页 |
| 第3章 极紫外多层膜横向梯度的控制 | 第53-74页 |
| 3.1 引言 | 第53-55页 |
| 3.2 磁控溅射膜厚横向梯度控制模型 | 第55-59页 |
| 3.3 磁控溅射源分布特性参数反演 | 第59-65页 |
| 3.4 基底调速曲线的反演 | 第65-66页 |
| 3.5 曲面基底上Mo/Si多层膜膜厚横向梯度控制结果 | 第66-73页 |
| 3.6 小结 | 第73-74页 |
| 第4章 极紫外多层膜纵向梯度的控制 | 第74-85页 |
| 4.1 引言 | 第74-75页 |
| 4.2 Mo/Si多层膜膜层有效厚度与公转速度关系式的标定 | 第75-77页 |
| 4.3 宽带Mo/Si多层膜的设计及容差分析 | 第77-80页 |
| 4.4 宽带Mo/Si多层膜的制备与测试分析 | 第80-84页 |
| 4.5 小结 | 第84-85页 |
| 第5章 极紫外多层膜抗热损伤研究 | 第85-96页 |
| 5.1 引言 | 第85页 |
| 5.2 多层膜层间扩散过程的微观物理机制 | 第85-86页 |
| 5.3 Mo/Si多层膜扩散系数测量 | 第86-91页 |
| 5.4 添加亚层法提高Mo/Si多层膜抗热损伤性能 | 第91-95页 |
| 5.5 小结 | 第95-96页 |
| 第6章 结论 | 第96-100页 |
| 6.1 工作总结 | 第96-97页 |
| 6.2 创新点 | 第97-98页 |
| 6.3 研究展望 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-109页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第109-110页 |
| 指导教师及作者简介 | 第110-111页 |
| 致谢 | 第111页 |
