| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 等离子喷涂技术原理 | 第10-11页 |
| 1.3 氧化铝基陶瓷涂层研究进展 | 第11-12页 |
| 1.4 晶须强化复合材料研究进展 | 第12-18页 |
| 1.4.1 晶须强化机理 | 第12-14页 |
| 1.4.2 SiCw基本性质 | 第14-15页 |
| 1.4.3 SiCw强化影响因素 | 第15-16页 |
| 1.4.4 SiCw定向排布研究进展 | 第16-18页 |
| 1.5 电场定向晶须机理 | 第18-20页 |
| 1.6 涂层结构与抗冲蚀性能关系 | 第20-21页 |
| 1.7 本文研究目的及内容 | 第21-23页 |
| 1.7.1 研究目的 | 第21页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 Al_2O_3/SiCw复合粉末制备工艺研究 | 第23-34页 |
| 2.1 涂层材料 | 第23-24页 |
| 2.2 喷涂粉末制备 | 第24-30页 |
| 2.2.1 SiCw预处理工艺 | 第26-27页 |
| 2.2.2 喷雾造粒工艺 | 第27-30页 |
| 2.2.3 粉末烧结工艺 | 第30页 |
| 2.3 喷涂粉末性能测定 | 第30-31页 |
| 2.4 复合粉末物相与微观结构分析 | 第31-33页 |
| 2.4.1 复合粉末物相成分分析 | 第31-32页 |
| 2.4.2 复合粉末微观结构分析 | 第32-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 Al_2O_3/SiCw涂层制备及微观结构分析 | 第34-48页 |
| 3.1 复合涂层制备 | 第34-38页 |
| 3.1.1 高压静电场搭建 | 第34-35页 |
| 3.1.2 喷涂设备 | 第35-36页 |
| 3.1.3 涂层制备 | 第36-38页 |
| 3.2 静电场电压对涂层微观结构的影响 | 第38-43页 |
| 3.2.1 涂层试样制备及观察 | 第38页 |
| 3.2.2 涂层截面元素分析 | 第38-39页 |
| 3.2.3 涂层微观形貌分析 | 第39-43页 |
| 3.3 静电场电压对涂层物相的影响 | 第43-46页 |
| 3.3.1 静电场电压对涂层晶粒尺寸的影响 | 第43-45页 |
| 3.3.2 静电场电压对涂层残余应力的影响 | 第45-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 静电场电压对涂层性能的影响 | 第48-58页 |
| 4.1 涂层力学性能测试方法 | 第48-52页 |
| 4.1.1 涂层显微硬度测定 | 第48-49页 |
| 4.1.2 涂层断裂韧性测定 | 第49-50页 |
| 4.1.3 涂层抗冲蚀性能测定 | 第50-52页 |
| 4.2 静电场电压对涂层显微硬度的影响 | 第52页 |
| 4.3 静电场电压对涂层断裂韧性的影响 | 第52-54页 |
| 4.4 静电场电压对涂层抗冲蚀性能的影响 | 第54-56页 |
| 4.5 静电场电压对涂层力学性能的影响机理 | 第56-57页 |
| 4.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 总结 | 第58-59页 |
| 5.2 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文和申请的专利 | 第67页 |