首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工程材料学论文--特种结构材料论文

Co掺杂MgxZn1-xO薄膜的微结构及磁性研究

摘要第8-11页
Abstract第11-13页
第一章 绪论第14-22页
    第一节 自旋电子学简介第14-19页
        1.1.1 铁磁材料中的自旋电子学的发展第15-16页
        1.1.2 半导体材料中自旋电子学的发展第16-19页
    第二节 磁性半导体第19-20页
    第三节 本文的研究动机及研究方法第20-22页
第二章 样品的制备与表征方法第22-35页
    第一节 溅射镀膜技术的介绍第22-24页
        2.1.1 磁控溅射第23-24页
        2.1.2 射频溅射第24页
    第二节 分子束外延技术介绍第24-26页
    第三节 实验中使用的仪器介绍第26-28页
        2.3.1 JGP560型双室超高真空三靶共溅射设备第26-27页
        2.3.2 超高真空分子束外延装置第27-28页
    第四节 样品性质表征的技术第28-35页
        2.4.1 X射线衍射仪(XRD)第28-29页
        2.4.2 交变梯度磁强计(AGM)第29-31页
        2.4.3 超导量子干涉仪(SQUID)第31-32页
        2.4.4 透射电子显微镜(TEM)第32-35页
第三章 单晶薄膜Zn_(0.85-x)Mg_xCo_(0.15)O的徽结构表征第35-41页
    第一节 引言第35页
    第二节 样品制备细节及TEM样品的制备第35-38页
        3.2.1 样品的制备第35-37页
        3.2.2 实验细节第37-38页
    第三节 样品的结构表征第38-40页
    第四节 本章小结第40-41页
第四章 外延单晶薄膜Co_(0.5)(Mg_(0.55)Zn_(0.45))_(0.5)O_(1-v)微结构表征与磁性分析第41-50页
    第一节 引言第41-42页
    第二节 实验方法第42-44页
        4.2.1 平面类型TEM样品第42-43页
        4.2.2 Co_(0.5)(Mg_(0.55)Zn_(0.45))_(0.5)O_(1-v)薄膜样品制备与测量第43-44页
    第三节 样品薄膜的微结构表征与磁性分析第44-49页
        4.3.1 样品薄膜的微结构表征第44-45页
        4.3.2 样品薄膜的磁性与微结构分析第45-49页
    第四节 本章小结第49-50页
第五章 总结与展望第50-52页
    第一节 本论文的主要内容和结果第50页
    第二节 论文创新第50-51页
    第三节 展望第51-52页
参考文献第52-56页
致谢第56-58页
硕士期间发表的文章第58-59页
参加的学术会议第59-60页
学位论文评阅及答辩情况表第60页

论文共60页,点击 下载论文
上一篇:激光在粘接缺陷结构材料中激发超声及波形参数提取研究
下一篇:LiBH4-MgH2复合体系制备与吸放氢性能的研究